[发明专利]具有非均等间距和/或宽度的薄片的用于X射线设备的防散射栅格无效
| 申请号： | 200680046663.0 | 申请日： | 2006-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101326591A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | J·C·W·范弗罗恩霍芬 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/02 | 分类号： | G21K1/02;G21K3/00;G01N23/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 黄睿;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 均等 间距 宽度 薄片 用于 射线 设备 散射 栅格 | ||
1、一种防散射栅格(5)，用于衰减入射到其上的散射辐射(8)，所述栅格(5)包括多个采用以间隔关系排列的薄片形式的辐射吸收元件(51)，其中，至少某些所述薄片相对于垂直轴倾斜以致于朝向距所述栅格(5)固定距离的平面上的单条线(202)会聚，并且其中，在所述栅格(5)的边缘处的所述薄片(51)的宽度小于在所述栅格(5)的中心处的所述薄片的宽度，和/或其中，在所述栅格(5)的边缘处的薄片(51)对之间的距离大于在所述栅格(5)的中心处的薄片(51)对之间的距离。
2、如权利要求1所述的防散射栅格(5)，其中，在所述栅格的边缘处的薄片(51)对之间的距离和所述薄片(51)的宽度大于在所述栅格的中心处的薄片(51)对之间的距离和所述薄片(51)的宽度，并且在所述栅格(5)的边缘处的薄片(51)对之间的距离与所述薄片宽度的比值相对于在所述栅格(5)的中心处的比值基本上相等或者更大。
3、如权利要求1所述的防散射栅格(5)，其中，在所述薄片(51)之间提供对所述辐射基本上透明的填充材料(52)。
4、如权利要求1所述的防散射栅格(5)，其中，所述栅格(5)的高度基本上是均匀的，并且由所述薄片(51)的高度来定义。
5、一种X射线设备，包括：辐射源(2)，用于产生穿过感兴趣的目标(4)透射的辐射束(3)；检测器(6)，用于接收穿过所述目标(4)透射的辐射；以及如权利要求1所述的防散射栅格(5)，位于所述检测器(6)和所述目标(4)之间。
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