[发明专利]肟酯光敏引发剂

权利要求书

1.式I的化合物

其中

R₁为C₁-C₂₀烷基；

R₂为C₁-C₂₀烷基；

R₃和R₄为氢；

R₅为NR₁₂R₁₃；

R₆、R₇、R’₆和R’₇为氢；

R₉为C₁-C₂₀烷基；

R₁₁为C₁-C₂₀烷基；

R₁₂和R₁₃与和它们连接的N原子一起形成咔唑或吲哚环系统，所述咔 唑或吲哚环系统是未取代的或被一个或多个C₁-C₂₀烷基或OR₁₁取代。

2.一种光聚合的组合物，其包含

(a)至少一种烯键式不饱和光聚合的化合物，和

(b)作为光敏引发剂的至少一种式I的化合物

其中

R₁为C₁-C₂₀烷基；

R₂为C₁-C₂₀烷基；

R₃和R₄为氢；

R₅为NR₁₂R₁₃；

R₆、R₇、R’₆和R’₇为氢；

R₉为C₁-C₂₀烷基；

R₁₁为C₁-C₂₀烷基；

R₁₂和R₁₃与和它们连接的N原子一起形成咔唑或吲哚环系统，所述咔 唑或吲哚环系统是未取代的或被一个或多个C₁-C₂₀烷基或OR₁₁取代。

3.如权利要求2所述的光聚合的组合物，其中除光敏引发剂(b)之外， 还包含至少一种其它的光敏引发剂(c)和/或其它添加剂(d)。

4.如权利要求2和3中任意一项所述的光聚合的组合物，其包含基于 所述组合物0.05-25重量％的光敏引发剂(b)，或光敏引发剂(b)和(c)。

5.如权利要求2和3中任意一项所述的光聚合的组合物，其包含光 敏剂作为其它添加剂(d)。

6.如权利要求2和3中任意一项所述的光聚合的组合物，其另外包含 粘合剂聚合物(e)。

7.一种光聚合包含烯键式不饱和双键的化合物的方法，其包括用波长 150-600nm电磁辐射或用电子束或用X-射线辐射如权利要求2所述的组合 物。

8.一种制备权利要求1所述的式I的化合物的方法，该方法使式Ia的 肟化合物

其中R₁，R₂，R₃，R₄，R₅，R₆，R’₆，R₇和R’₇如权利要求1所定义， 与式V或VI的酰卤或酸酐

其中Ha1代表卤素原子，R₉如权利要求1所定义，

在碱或碱混合物存在下反应。

9.带涂层底材，其中至少一个表面用如权利要求2所述组合物涂覆。