[发明专利]具有表面粗糙度的抛光垫

权利要求书

1.一种抛光垫，包含：

一抛光层，其具有表面粗糙度介于约200至300微英寸间的抛光表 面。

2.如权利要求1所述的抛光垫，其中所述抛光表面具有介于250至 300微英寸之间的表面粗糙度。

3.如权利要求1所述的抛光垫，还包括一背衬层，位于所述抛光层的 与所述抛光表面相反的一侧上。

4.如权利要求1所述的抛光垫，其中所述抛光表面包含多孔聚氨酯。

5.如权利要求1所述的抛光垫，其中所述抛光表面是一新鲜表面。

6.一种制造抛光垫的方法，包括：

通过挤出成型或模铸成型法形成一抛光层；以及

打磨所述抛光层的抛光表面使其表面粗糙度介于约200至300微英 寸之间。

7.如权利要求6所述的方法，其中打磨所述抛光表面的步骤包括打磨 所述抛光表面使其表面粗糙度介于250至300微英寸之间。

8.如权利要求6所述的方法，还包括连接一背衬层至所述抛光层的与 所述抛光表面相反的一侧。

9.如权利要求8所述的方法，其中在所述打磨步骤之后，将所述背衬 层连接至所述抛光层。

10.如权利要求6所述的方法，其中所述抛光层包含多孔聚氨酯。

11.如权利要求6所述的方法，其中所述打磨步骤使用除了用于抛光基 材之抛光机以外的机器来执行。

12.如权利要求6所述的方法，还包括在所述打磨步骤之后，使用所述 抛光垫抛光一基材。

13.如权利要求6所述的方法，其中打磨所述抛光表面的步骤包括一第 一打磨步骤，以及使用比第一打磨步骤更细的打磨粒度的第二打磨步骤。

14.如权利要求6所述的方法，其中形成所述抛光层的步骤包括形成一 抛光层，以及将所述抛光层切割成所需形状。

15.如权利要求6所述的方法，其中形成所述抛光层的步骤包括将所述 抛光层形成为输送带上的薄片材。

16.如权利要求6所述的方法，其中形成所述抛光层的步骤包括注射成 型法。