[发明专利]用于控制发射机功率消耗的方法和设备无效

专利信息
申请号: 200680039826.2 申请日: 2006-08-25
公开(公告)号: CN101297498A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 哈伊姆·韦尔斯曼;尤瓦尔·卡梅尔 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: H04B7/005 分类号: H04B7/005;H04B1/00;H03G1/00;H03F1/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 刘国伟
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 控制 发射机 功率 消耗 方法 设备
【权利要求书】:

1、一种用于对包括一个或一个以上放大级的射频(RF)发射机进行控制的方法,所述方法包含:

定义操作所述发射机所需的传输功率电平的范围;

确定所述范围中期望在所述发射机使用期间发生的所述传输功率电平的统计分布;

响应于所述统计分布,将所述范围划分成多个子范围且针对每一子范围确定所述放大级中的至少一者的一个或一个以上操作设定;及

配置所述发射机,以确定在所述发射机使用期间的输出RF信号的目标功率电平,并视所述目标功率电平所归属的所述子范围而定来应用所述一个或一个以上操作设定。

2、如权利要求1所述的方法,其中划分所述范围和确定所述操作设定包含考虑所述统计分布来挑选所述子范围和设定,以减少所述发射机汲取的电力。

3、如权利要求1所述的方法,其中所述一个或一个以上放大级具有一组可配置参数,且其中确定所述操作设定包含:挑选一子组所述参数,所述操作设定将应用于所述子组参数;及停用不在所述子组中的所述参数中的至少一者的可配置性。

4、如权利要求1所述的方法,其中所述RF发射机是低工作循环(LDC)网络中的LDC终端的一部分。

5、如权利要求1所述的方法,其中所述一个或一个以上操作设定包含电源电压、偏置电压以及旁通条件中的至少一者,且其中配置所述发射机包含以下操作中的至少一者:修改电源电压、修改偏置电压以及旁通所述一个或一个以上放大级中的至少一者。

6、如权利要求5所述的方法,其中所述操作设定中的至少一者包含所述旁通条件,其中所述发射机是根据半双工协议而在接收模式与传输模式之间交替操作,且其中配置所述发射机包含:应用所述旁通条件以旁通所述一个或一个以上放大级中的所述至少一者;及使用单个RF开关在所述接收模式与所述传输模式之间交替。

7、如权利要求5所述的方法,其中所述操作设定中的至少一者包含所述旁通条件,其中所述发射机包含经耦合以在多个频率带中的一者上进行传输的多频带发射机,且其中配置所述发射机包含:应用所述旁通条件以旁通所述一个或一个以上放大级中的所述至少一者;及使用RF开关来选择所述多个频率带中的一者。

8、如权利要求1所述的方法,其中划分所述范围包含响应于所述统计分布减少所述子范围的数目及所述操作设定的数目中的至少一者。

9、如权利要求1所述的方法,其中配置所述发射机包含对所述发射机进行编程,以使用状态机和查找表(LUT)中的至少一者来选择所述操作设定。

10、一种射频(RF)发射机,其包含:

一个或一个以上放大级,其经布置以产生输出RF信号,其中所述放大级中的至少一者可使用一个或一个以上操作设定来配置,且其中所述一个或一个以上操作设定通过以下方式来确定:定义操作所述发射机所需的传输功率电平的范围;确定所述范围中期望在所述发射机使用期间发生的所述传输功率电平的统计分布;响应于所述统计分布将所述范围划分成多个子范围;及针对每一子范围确定所述放大级中的至少一者的所述一个或一个以上操作设定;及

控制模块,其经布置以确定在所述发射机使用期间的所述输出RF信号的目标功率电平,并视所述目标功率电平所归属的所述子范围而定,将所述一个或一个以上操作设定应用于所述放大级中的所述至少一者。

11、如权利要求10所述的发射机,且其包含电源,所述电源经布置以提供用于操作所述发射机的电力,其中考虑所述统计分布来挑选所述子范围和设定以减少所述发射机从所述电源汲取的电力。

12、如权利要求10所述的发射机,其中所述一个或一个以上放大级具有一组可配置参数,且其中挑选所述子范围和设定以选择一子组所述参数,所述操作设定将要应用于所述子组参数,并停用不在所述子组中的所述参数中的至少一者的可配置性。

13、如权利要求10所述的发射机,其中所述发射机经进一步耦合,以作为低工作循环(LDC)网络中的LDC终端的一部分操作。

14、如权利要求10所述的发射机,其中所述一个或一个以上操作设定包含电源电压、偏置电压以及旁通条件中的至少一者,且其中所述控制模块经耦合以通过执行以下操作中的至少一者来应用所述一个或一个以上操作设定:修改电源电压、修改偏置电压以及旁通所述一个或一个以上放大级中的至少一者。

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