[发明专利]用于在容器上等离子体沉积阻挡层的冷却装置

权利要求书

1.一种用于在容器(2)的内壁上等离子体沉积薄层阻挡材料的装置(1)，所述装置(1)包括：

电磁波发生器(3)；

腔(5)，其与所述发生器(3)连接且由导电材料制成；以及

室(6)，其定位在所述腔(5)内且由能够被来自所述发生器(3)的电磁波透过的材料制成；

所述装置(1)的特征在于，其包括用于冷却所述室(6)的机构(14，15；16)。

2.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述冷却机构包括在腔(5)内制成的多个开口(14)。

3.根据权利要求2所述的装置(1)，其特征在于，所述开口(14)被定向成彼此平行。

4.根据权利要求3所述的装置(1)，其特征在于，所述开口(14)被定向成沿着与所述装置(1)的路径形成一角度的方向。

5.根据权利要求4所述的装置(1)，其特征在于，所述角度在5°到45°之间。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的装置(1)，其特征在于，所述装置(1)包括定位在所述腔(5)的上游且面向所述腔(5)的风扇(15)。

7.根据权利要求2至5中任一项所述的装置(1)，其特征在于，所述开口(14)基本上分布在所述腔(5)的整个周边上。

8.根据权利要求2至5中任一项所述的装置(1)，其特征在于，所述开口(14)基本上分布在所述腔(5)的整个高度上。

9.根据权利要求2至5中任一项所述的装置(1)，其特征在于，所述开口(14)在所述腔(5)上的密度在1/cm²到10/cm²之间。

10.根据权利要求2至5中任一项所述的装置(1)，其特征在于，所述冷却机构包括用于在所述室(6)内产生空气循环的特定装置。

11.根据权利要求10所述的装置(1)，其特征在于，所述装置包括定位在所述室(6)下面的风扇(16)。 

12.根据权利要求10所述的装置(1)，其特征在于，所述装置包括与所述室(6)连接的供气管线和真空泵。