[发明专利]用于介入性磁共振的标志物追踪有效
| 申请号: | 200680038513.5 | 申请日: | 2006-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN101292172A | 公开(公告)日: | 2008-10-22 |
| 发明(设计)人: | S·克吕格尔;T·舍夫特 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | G01R33/28 | 分类号: | G01R33/28;A61B5/055 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王英 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 介入 磁共振 标志 追踪 | ||
本发明涉及磁共振技术。其在定位或追踪导管、穿刺式探头以及在使用介入性磁共振成像的过程中使用的其它介入性器械中具有特殊应用,并且将特别参考其进行描述。其更一般地与在磁共振扫描仪体积中定位微线圈协同应用。
介入性磁共振成像用于导引介入性设备来进行活组织检查、定位用于近距离治疗的辐射源、进行药物的靶向输送或基因治疗等。在采用介入性磁共振成像的过程中,将基准标志物或者基准标志物组件设置在导管、穿刺式探头或其它介入性器械之上或之中。基准标志物可以包括设计为可由磁共振扫描仪探测到的有源微线圈,或者具有在磁共振图像中显示出的磁化率的无源线圈或其它无源标志物。
布置在介入性器械的操作尖端的单一基准标志物提供了尖端位置,但是通常不提供关于介入性器械定向的信息。而且,定位在器械尖端的基准标志物可能发生扭曲,或者妨碍在介入点处精确地成像。因此,包括两个或更多个(通常三个或更多个)的基准标志物的基准标志物组件设置在器械上,与器械尖端相隔定义距离。通过定位标志物,确定基准标志物组件的位置和定向。由于介入性器械具有关于基准标志物组件的固定定向和位置,这依次确定了器械尖端的位置以及任选地确定了定向。
由于使基准标志物组件定位远离磁共振系统的等中心(isocenter)一定距离,使用这种基准标志物组件是复杂的。在一些情况下,基准标志物组件可以定位在视场边缘附近,例如距离等中心200毫米或更多个。在这些距离处,由于B0/B1不均匀性、不适当校正的梯度非线性等,追踪精确度降低。如果基准标志物组件移至视场之外,梯度模糊可能导致完全错误的追踪信息。由于在通过内膛的移动方面没有固有限制,用于整个移出视场之外的电位在z方向上最大。
医务人员在执行介入性过程期间,依赖于对基准标志物组件提供的介 入性器械的追踪。如果追踪精确度有问题,那么应当向医务人员报警。然而,现有的追踪系统不提供用于探测追踪不精确或者由于这种追踪不精确而向医务人员报警的可靠机构。
在用于确定追踪精确度的一种方法中,使用追踪历史来确定是否以及何时基准标志物组件离开视场或其它可靠的追踪范围。然而,该方法可以由低的或可变的追踪帧频折衷,并且不可用于单次激发(single-shot)追踪技术。
下文预期了克服前述及其它限制的改进。
根据一方面,公开了一种追踪方法。在基准标志物组件的明显位置处测量磁共振扫描仪产生的B0磁场的局部B0磁场不均匀性。如果所测量的局部B0磁场不均匀性满足警告标准,则发出警告。
根据另一方面,公开了一种追踪系统。B0均匀性追踪检验器测量磁共振扫描仪产生的B0磁场在基准标志物组件的明显位置处的局部B0磁场不均匀性。如果B0均匀性追踪检验器所测量的局部B0磁场不均匀性满足警告标准,则用户界面发出警告。
根据另一方面,公开了一种介入性磁共振系统,包括磁共振扫描仪、基准标志物组件,使用磁共振扫描仪执行追踪处理以至少追踪基准标志物组件的明显位置的追踪处理器,以及在前一段中所述的B0均匀性追踪检验器和用户界面。
一个优点在于更可靠的介入性磁共振追踪。
另一优点在于减少了由不精确追踪引起的医疗事故的可能性。
另一优点在于以直接的形式向医务人员提供关于追踪精确度的信息。
在阅读优选实施例的下列详细描述之后,对于本领域普通技术人员而言,许多附加优点和益处将变得显而易见。
本发明可以成形为各种部件和部件的布置,以及各种处理操作和处理操作的布置。附图的目的仅在于示出优选实施例,而不应理解为限制本发明。
图1概略地示出了包括对精确度进行监视追踪的介入性磁共振系统。
图2概略地示出了用于追踪的电子器件,其包括基于SNR和B0磁场均匀性来监视追踪精确度。
图3概略地示出了适当的处理器,其用于测量局部dB0/dx磁场不均匀性。
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