[发明专利]用于介入性磁共振的标志物追踪

权利要求书

1.一种用于基准标志物组件(30)的追踪方法，包括：

测量由磁共振扫描仪(10)产生的B₀磁场在所述基准标志物组件(30)的明显位置处的局部B₀磁场不均匀性；以及

如果所测量的局部B₀磁场不均匀性满足警告标准，则发布警告。

2.根据权利要求1所述的追踪方法，还包括：

使用所述磁共振扫描仪(10)确定所述基准标志物组件(30)的明显位置。

3.根据权利要求2所述的追踪方法，还包括：

根据所述基准标志物组件(30)的明显位置，定位介入性器械(20)的操作尖端(32)，所述基准标志物组件包括与所述介入性器械连接的一个或多个基准标志物。

4.根据权利要求2所述的追踪方法，其中，所述基准标志物组件包括多个基准标志物，并且所述追踪方法还包括：

使用所述磁共振扫描仪(10)确定所述基准标志物组件(30)的明显定向；

重复确定所述明显位置和所述明显定向以追踪所述基准标志物组件；以及

根据对所述基准标志物组件的追踪来追踪与所述基准标志物组件连接的介入性器械(20)。

5.根据权利要求4所述的追踪方法，其中，所述基准标志物组件(30)中的多个基准标志物包括至少三个有源微线圈基准标志物。

6.根据权利要求2所述的追踪方法，还包括：

计算在所述确定明显位置的步骤期间接收的磁共振信号的信噪比(SNR)；以及

如果所述SNR小于基于噪声的警告阈值，则发布警告。

7.根据权利要求2所述的追踪方法，还包括：

计算确定所述明显位置的指标的噪声数值；以及

如果所述指标的噪声数值满足基于噪声的警告标准，则发布警告。

8.根据权利要求1所述的追踪方法，其中，所述发布警告的步骤包括：

如果所测量的局部B₀磁场不均匀性大于警告阈值，则发布警告。

9.根据权利要求1所述的追踪方法，其中，所述测量局部B₀磁场不均匀性的步骤包括：

对符号相反的磁场梯度测量磁共振信号；以及

基于对所施加的符号相反的磁场梯度所测量的磁共振信号，来确定所述局部B₀磁场不均匀性。

10.根据权利要求9所述的追踪方法，其中，所述基于对于符号相反的磁场梯度所测量的磁共振信号，来确定所述局部B₀磁场不均匀性的步骤包括：

计算所测量的明显位置之间的差值，所述明显位置是从对于符号相反的磁场梯度的磁共振信号获得的，并且根据所施加的梯度导出局部ΔB₀。

11.根据权利要求1所述的追踪方法，其中，所述测量局部B₀磁场不均匀性的步骤包括：

基于沿着三个互相不平行方向中的每一个对施加的符号相反的磁场梯度所测量的磁共振信号，确定在所述三个互相不平行的方向上的局部B₀磁场不均匀性分量。

12.根据权利要求11所述的追踪方法，其中，所述发布警告的步骤包括：

如果所述三个所确定的局部B₀磁场不均匀性分量中的任意一个超出警告阈值，则发布警告。

13.一种用于基准标志物组件(30)的追踪系统，包括：

B₀均匀性追踪检验器(54)，其测量由磁共振扫描仪(10)产生的B₀磁场在所述基准标志物组件(30)的明显位置处的局部B₀磁场不均匀性；以及

用户界面(42，77，78)，如果由所述B₀均匀性追踪检验器测量的所述局部B₀磁场不均匀性满足警告标准，所述用户界面发布警告。

14.根据权利要求13所述的追踪系统，还包括：

追踪处理器(50)，其使用所述磁共振扫描仪(10)执行追踪处理，以至少追踪所述基准标志物组件(30)的明显位置。