[发明专利]用于加工具有激光刻蚀的沟槽触点的基件，尤其是太阳能电池的方法和装置

权利要求书

1.一种加工基件的方法，所述基件具有活性层(13)，且活性层的顶面(14)上有增透层(15)，其特征在于下列步骤：

-在增透层(15)中加工多条沟槽(22)，该沟槽直达位于下面的活性层(13)，

-在沟槽底部(23)上涂布触通材料(30)，仅在沟槽(22)之内并且仅在沟槽底部(23)的区域内进行局部加热(20b)，从而至少对沟槽(22)中的触通材料(30)进行加热(20b)或升温，以与邻接的活性层(13)的材料(25)结合。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基件是太阳能电池(11)。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，利用激光(20a)在增透层(15)中加工沟槽(22)。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，在增透层(13)中加工沟槽(22)之后，对基件(11)及其活性层(13)上的顶面(14)进行清洁(27)。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，清除沟槽(22)中的杂质或离析物。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，采用冲洗方法进行清洁。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，采用碱洗或HF冲洗方法进行清洁。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，采用电镀方式涂布触通材料。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述触通材料通过光生伏打方法进行增厚。

10.根据权利要求1至3中任一项要求所述的方法，其特征在于：以化学方法涂布触通材料。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，采用印刷工艺来涂布液态或糊状触通材料。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，采用喷墨印刷工艺来涂布液态或糊状触通材料。

13.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，所涂布的触通材料(30)含有镍。

14.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，使用掺杂材料对沟槽(22)所在区域邻接的活性层进行掺杂。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，将掺杂材料与触通材料混合后作为触通与掺杂材料(30)。

16.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，掺杂材料含有磷。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，掺杂材料就是磷。

18.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，触通与掺杂材料(30)是NiP。

19.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，对所述的触通与掺杂材料进行加热(20b)或升温，以与邻接的活性层(13)的材料(25)结合并且掺杂。

20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，对所述的触通与掺杂材料进行加热(20b)是通过激光照射(20b)进行加热(20b)。

21.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所涂布的触通与掺杂材料(30)构成触点(30′)或者接触轨。

22.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，所涂布的触通与掺杂材料(30)构成太阳能电池(11)的正面触点。

23.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，所涂布的触通与掺杂材料(30)在再次加热触通与掺杂材料(30)之后构成太阳能电池(11)的正面触点。

24.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，使沟槽(22)的侧面棱边绝缘。

25.根据权利要求24所述的方法，其特征在于，通过设置绝缘层使沟槽(22)的侧面棱边绝缘。