[发明专利]用于利用不相干的多色X射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪有效

专利信息
申请号: 200680029434.8 申请日: 2006-05-30
公开(公告)号: CN101257851A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: C·戴维;F·普费弗;T·韦特坎普 申请(专利权)人: 保罗·谢勒学院
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01N23/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 卢江;刘春元
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 利用 不相干 多色 射线 进行 定量 成像 断层 照相术 干涉仪
【权利要求书】:

1.一种用于获得定量相衬图像的X射线、尤其是硬X射线干涉仪,其包括:

a)X射线源(XS),优选为标准多色X射线源,

b)不同于布拉格晶体的衍射光学元件(G1),优选为透射几何结构的衍射光学元件(G1),该衍射光学元件(G1)在下文被称为射束分离器,以及

c)具有在空间上调制过的检测灵敏度的位置灵敏检测器(D)。

2.根据权利要求1所述的干涉仪,其中,射束分离器为线光栅或二维构造的光栅(G1),优选为相栅;即具有低X射线吸收、但是具有相当大的X射线相移的光栅,相移优选为π或π的奇数倍。

3.根据权利要求1或2所述的干涉仪,其中,充当射束分离器的相栅通过深蚀刻到硅中或由聚合物制成。

4.根据权利要求1所述的干涉仪,其中,分析器为具有高X射线吸收衬度的一维或二维光栅结构(G2),该光栅结构被放置在靠近检测器(D、D1)的前面;优选地,该光栅结构用作防散射滤线栅,或防散射滤线栅被用作调制掩模。

5.根据权利要求1或4所述的干涉仪,其中,分析栅(G2)通过将重金属沉积到低吸收结构的间隙中来制成。

6.根据权利要求1或2所述的干涉仪,其中,分析器的周期和射束分离器的周期通过关系p2=12p·(d+l)1]]>与入射波前的曲率半径相配,其中p1是射束分离器的周期;p2是分析器的周期;d是射束分离器(G1)与分析器(G2)之间的距离;而1是X射线源(XS)与射束分离器(G1)之间的距离。

7.根据权利要求1或2所述的干涉仪,其中,射束分离器与分析器之间的距离被选为奇数的分数塔尔博特距离,该奇数的分数塔尔博特距离由dn,sph.=l·dnl-dn=l·n·p12/(8λ)l-n·p12/(8λ)]]>给出,其中n=1,3,5,…。

8.根据权利要求1或2或7所述的干涉仪,其中,射束分离光栅的相移和射束分离光栅与分析器之间的距离适应于光子能量,该光子能量对应于被用作源的X射线发生器的发射谱线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于保罗·谢勒学院,未经保罗·谢勒学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680029434.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top