[发明专利]用于利用不相干的多色X射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪有效
| 申请号: | 200680029434.8 | 申请日: | 2006-05-30 |
| 公开(公告)号: | CN101257851A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
| 发明(设计)人: | C·戴维;F·普费弗;T·韦特坎普 | 申请(专利权)人: | 保罗·谢勒学院 |
| 主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;G01N23/04 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢江;刘春元 |
| 地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 利用 不相干 多色 射线 进行 定量 成像 断层 照相术 干涉仪 | ||
1.一种用于获得定量相衬图像的X射线、尤其是硬X射线干涉仪,其包括:
a)X射线源(XS),优选为标准多色X射线源,
b)不同于布拉格晶体的衍射光学元件(G1),优选为透射几何结构的衍射光学元件(G1),该衍射光学元件(G1)在下文被称为射束分离器,以及
c)具有在空间上调制过的检测灵敏度的位置灵敏检测器(D)。
2.根据权利要求1所述的干涉仪,其中,射束分离器为线光栅或二维构造的光栅(G1),优选为相栅;即具有低X射线吸收、但是具有相当大的X射线相移的光栅,相移优选为π或π的奇数倍。
3.根据权利要求1或2所述的干涉仪,其中,充当射束分离器的相栅通过深蚀刻到硅中或由聚合物制成。
4.根据权利要求1所述的干涉仪,其中,分析器为具有高X射线吸收衬度的一维或二维光栅结构(G2),该光栅结构被放置在靠近检测器(D、D1)的前面;优选地,该光栅结构用作防散射滤线栅,或防散射滤线栅被用作调制掩模。
5.根据权利要求1或4所述的干涉仪,其中,分析栅(G2)通过将重金属沉积到低吸收结构的间隙中来制成。
6.根据权利要求1或2所述的干涉仪,其中,分析器的周期和射束分离器的周期通过关系
7.根据权利要求1或2所述的干涉仪,其中,射束分离器与分析器之间的距离被选为奇数的分数塔尔博特距离,该奇数的分数塔尔博特距离由
8.根据权利要求1或2或7所述的干涉仪,其中,射束分离光栅的相移和射束分离光栅与分析器之间的距离适应于光子能量,该光子能量对应于被用作源的X射线发生器的发射谱线。
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