[发明专利]膜层复合物及其制造方法

权利要求书

1. 一种制造膜层复合物的方法，其包括一金属承载基底和一硅酸盐层，采取以下的方法步骤：

a)制备金属的承载基底，

b)借助于热溶剂合成法形成硅酸盐结晶和/或硅酸盐颗粒，以及

c)用b)中的形成的硅酸盐结晶和/或硅酸盐颗粒涂敷至少金属承载基底的表面，其特征在于，

热溶剂合成在至少一个离子液体中实施。

2. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，合成在一由至少两个不同离子液体组成的混合物中实施。

3. 如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，离子液体包括1，3-二烷基咪唑啉-阳离子和亲水的或疏水的负离子X，尤其是，一价、二价或三价的负离子X^m-，其中m＝1，2或3，其中，烷基意指彼此独立的具有C-1至C-30的碳链长度的直线、分叉、饱和和/或不饱和的烷余下部分。

4. 如上述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，离子液体至少包括1-烷基-3-甲基咪唑啉卤化物，其中，烷基意指具有C-1至C-30的碳链长度的直线或分叉和/或饱和或不饱和的碳氢化合物，以及氯化物或溴化物的卤化物。

5. 如上述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，离子液体还包括催化离子，它们不同于离子液体中的负离子，催化离子可从以下组群中选择：磷酸盐(PO₄^3-)、有机磷酸盐(RO-PO₃^-)、硝酸盐(NO₃^-)、硫酸盐(SO₄^2-)、有机硫酸盐(R-SO₃^-)、羧酸盐(R-COO^-)、甲烷化物(〔HCR⁸R⁹〕^-和〔CR⁸R⁹R¹⁰〕^-，使R⁸，R⁹，R¹⁰＝CN，NO或NO₂，其中，R⁸，R⁹，R¹⁰可以相同或不同)，氟化物(F^-)、氯化物(Cl^-)或溴化物(Br^-)，叠氮化物(N₃^-)、氰化物(CN^-)、氰酸盐(OCN^-)、雷酸盐(R₂CNO^-)，或硫氰酸盐(SCN^-)。

6. 如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，硅酸盐晶体和/或硅酸盐颗粒的合成在最高150℃温度下在高压釜内进行，与其是，采取强制循环方式在高压釜内实施溶液热合成。

7. 如上述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，同时实施方法步骤b)-制备硅酸盐晶体和/或硅酸盐颗粒以及方法步骤c)-涂敷承载基底。

8. 如上述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，金属承载基底由如下的金属组成：铜、铝、铁或它们的合金或特种钢。

9. 如上述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，硅酸盐层根据以下通用化学式由铝硅酸盐最好是沸石组成：

M2/zO·Al2O3·xSiO2·yH2O

其中，M：取自碱或碱土元素、氢和/或铵组群中的一个或一个以上的阳离子，

z：阳离子的价数或阳离子的价数之和，

x：1.8至12以及

y：0至8。

10. 如上述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，硅酸盐层包括如下的硅酸盐晶体和/或硅酸盐颗粒，它们具有的颗粒直径最高为200nm，尤其是10至150nm。

11. 如上述权利要求中至少一项所述的方法，其特征在于，硅酸盐层具有至少为10μm的膜层厚度，尤其是10μm最高为200μm，尤为首选地为50μm且最高为150μm。

12. 膜层复合物根据上述权利要求中至少一项方法制造。