[发明专利]前段工序中用于清洁离子注入的光致抗蚀剂的组合物

权利要求书

1.用于剥离-清洁离子注入的晶片基板的FEOL剥离和清洁组合物，该组合物包含以下组分：

a)至少一种有机剥离溶剂，

b)至少一种选自氟化铵、氟化氢铵和氟化氢的氟离子，

c)至少一种选自无机或有机酸的酸化剂，和

d)水。

2.根据权利要求1的FEOL剥离和清洁组合物，其中所述组合物还包含至少一种氧化剂。

3.根据权利要求2的FEOL剥离和清洁组合物，其中所述至少种氧化剂包括过氧化氢。

4.根据权利要求1的FEOL剥离和清洁组合物，其中所述至少一种有机溶剂选自化学式为R¹-S(O)(O)-R²的二烷基砜，其中R¹和R²为1-4碳原子的烷基，二甲亚砜(DMSO)，四氢噻吩-1，1-二氧化物，二甲基乙酰胺和二甲基甲酰胺。

5.根据权利要求3的FEOL剥离和清洁组合物，其中所述至少一种有机溶剂选自化学式为R¹-S(O)(O)-R²的二烷基砜，其中R¹和R²为1-4碳原子的烷基，二甲亚砜(DMSO)，四氢噻吩-1，1-二氧化物，二甲基乙酰胺和二甲基甲酰胺。

6.根据权利要求4的FEOL剥离和清洁组合物，其中所述至少一种有机溶剂包括环丁砜。

7.根据权利要求5的FEOL剥离和清洁组合物，其中所述至少一种有机溶剂包括环丁砜。

8.根据权利要求6的FEOL剥离和清洁组合物，其中所述至少一种酸包括盐酸。

9.根据权利要求7的FEOL剥离和清洁组合物，其中所述至少一种酸包括盐酸。

10.根据权利要求3的FEOL剥离和清洁组合物，包含约45到约82重量％的环丁砜，约0.8至约0.1重量％的氟化铵，约0.8到约3重量％的盐酸，约15到约50重量％的，且过氧化氢以其余组分与过氧氢组分的比约为∶1到约5∶1量存在。

11.用于从晶片基板剥离/清洁未灰化的离子注入的光致抗蚀剂的FEOL剥离和清洁方法，该方法包含用FEOL剥离/清洁组合物以足以清洁所述未灰化离子注入的光致抗蚀剂的晶片基板的时间，接触晶片基板上的所述未灰化离子注入的光致抗蚀剂，其中所述FEOL剥离/清洁组合物包含：

a)至少一种有机剥离溶剂，

b)至少一种选自氟化铵、氟化氢铵和氟化氢的氟离子，

c)至少一种选自无机或有机酸的酸化剂，和

d)水。

12.根据权利要求11的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物还包含至少一种氧化剂。

13.根据权利要12的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物中至少一种氧化剂包括过氧化氢。

14.根据权利要求11的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物中至少一种有机溶剂选自化学式为R¹-S(O)(O)-R²的二烷基砜，其中R¹和R²为1-4碳原子的烷基，二甲亚砜(DMSO)，四氢噻吩-1，1-二氧化物，二甲基乙酰胺和二甲基甲酰胺。

15.根据权利要求13的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物中至少一种有机溶剂选自化学式为R¹-S(O)(O)-R²的二烷基砜，其中R¹和R²为1-4碳原子的烷基，二甲亚砜(DMSO)，四氢噻吩-1，1-二氧化物，二甲基乙酰胺和二甲基甲酰胺。

16.根据权利要求14的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物中的至少一种有机溶剂包含环丁砜。

17.根据权利要求15的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物中的至少一种有机溶剂包含环丁砜。

18.根据权利要求16的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物中的至少一种酸包含盐酸。

19.根据权利要求17的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物中的至少一种酸包含盐酸。

20.根据权利要求13的FEOL剥离和清洁的方法，其中所述组合物包含约45到约82重量％的环丁，约0.8到约0.1重量％的氟化铵，约0.8到约3重量％的盐酸，约15到50重量％的水，且化氢以其余组分与过氧化氢组分的重量比为约2∶1到约5∶1的量存在。