[发明专利]一种还原罐的多层布置方法及其配套窑体

权利要求书

1.一种还原罐的多层布置方法，其特征在于：该方法以窑体作为还原罐的支撑，在窑体的后墙和前墙上设置一层或一层以上列向间隔排列的后支撑和前支撑；用于支撑同一个还原罐的前支撑高于后支撑，各还原罐以3～60°倾斜放置在后支撑和前支撑之间，还原罐设有结晶器的一端向上放置在前支撑上，还原罐设有出渣口的一端向下放置在后支撑上；结晶器和出渣口处于窑体的前、后墙之外。

2.根据权利要求1所述的还原罐的多层布置方法，其特征在于：各还原罐以15～30°倾斜放置在后支撑和前支撑之间。

3.根据权利要求1所述的还原罐的多层布置方法，其特征在于：前支撑和后支撑的层间距为50～400毫米。

4.根据权利要求1所述的还原罐的多层布置方法，其特征在于：前支撑和后支撑的层间距为120～250毫米。

5.根据权利要求1所述的还原罐的多层布置方法，其特征在于：各层还原罐的列间距为50～400毫米。

6.根据权利要求1所述的还原罐的多层布置方法，其特征在于：各层还原罐的列间距为120～250毫米。

7.根据权利要求1所述的还原罐的多层布置方法，其特征在于：还原罐采用圆形或矩形，还原罐的层与层之间，或列与列之间可交错排列。

8.按照权利要求1至7中任一权利要求所述还原罐的多层布置方法构筑的配套窑体，其特征在于：在窑体(4)的后墙和前墙上设置一层或一层以上列向间隔排列的后支撑(2)和前支撑(3)；用于支撑同一个还原罐(1)的前支撑(3)高于后支撑(2)。

9.根据权利要求8所述的配套窑体，其特征在于：在窑体(4)外的前支撑(3)和后支撑(2)处设有加强支撑。