[发明专利]全反射侧发射耦合装置有效

专利信息
申请号: 200610161742.8 申请日: 2006-12-19
公开(公告)号: CN101206271A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 刘颖;蔡振荣 申请(专利权)人: 香港应用科技研究院有限公司
主分类号: G02B3/08 分类号: G02B3/08;G02B17/08;G02B27/09;F21V5/04;F21V7/00;H01L33/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 王允方;刘国伟
地址: 中国*** 国省代码: 中国香港;81
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 全反射 发射 耦合 装置
【权利要求书】:

1.一种侧发光之耦合透镜系统,包含:

一准直透镜构件,准直透镜构件用于准直来自发光二极管之光至一第一方向;

一第一透镜表面,用于全反射来自发光二极管之光至所述第一方向;以及

一第二透镜表面,用于全反射在所述第一方向之光至一第二方向。

2.如第1项所述之系统,其中所述第一方向与所述第二方向间之夹角可大于、小于、或等于90度。

3.如第1项所述之系统,其中所述第一方向与所述第二方向间之所述夹角介于70度与110度。

4.如第1项所述之系统,所述系统进一步包含与第二透镜表面平行之至少一额外之表面。

5.如第4项所述之系统,其中所述至少一额外之表面中之每一表面互相平行且所述每一表面各自有一L长度而每一表面与另一表面间各自有一D距离。

6.如第5项所述之系统,其中所述L长度之大小等于所述D距离之大小。

7.如第5项所述之系统,其中所述L长度之大小大于所述D距离之大小。

8.一种发光二极管装置,包含:

至少一个发光二极管芯片;以及

一耦合透镜,用于形成来覆盖所述发光二极管芯片并导引来自所述发光二极管之光,

其中所述耦合透镜包含一准直透镜构件,所述准直透镜构件用于准直来自所述发光二极管之光;一第一透镜表面,用于全反射自所述发光二极管之光至所述第一方向;  以及一第二透镜表面,用于全反射在所述第一方向之光至一第二方向。

9.如第8项所述之装置,其中所述第一方向与所述第二方向间之夹角可大于、小于、或等于90度。

10.如第9项所述之装置,其中所述第一方向与所述第二方向间之所述夹角介于70度与110度。

11.如第9项所述之装置,其进一步包含与第二透镜表面平行之至少一额外之表面。

12.如第11项所述之系统,其中所述至少一额外之表面中之每一表面互相平行且所述每一表面各自有一L长度而每一表面与另一表面间各自有一D距离。

13.如第12项所述之系统,其中所述L长度之大小等于所述D距离之大小。

14.如第12项所述之系统,其中所述L长度之大小大于所述D距离之大小。

15.如第13项所述之系统,其中所述至少一个发光二极管芯片发出具有至少一种颜色之光且所述之系统进一步包含一控制系统,所述控制系统使所述至少一种颜色之光依顺序地出现或者同时地出现或同时地关闭。

16.如第14项所述之系统,其中所述至少一个发光二极管芯片发出具有至少一种颜色之光且所述之系统进一步包含一控制系统,所述控制系统使所述至少一种颜色之光依顺序地或同时地出现或者同时地关闭。

17.一种发光二极管背光系统,包含:

多个提供光之发光二极管装置,以及

一光导引器,其具有多个侧面,一下表面及一可让光线射出之上表面,其中所述下表面具有漫反射来自所述多个发光二极管之光的多个图案以及所述发光二极管装置的光线耦合到光导引器中,并经上表面射出。

18.如第17项所述之系统,其中所述之多个发光二极管装置包含:

至少一个发光二极管芯片;以及

一耦合透镜,用于形成来覆盖所述发光二极管芯片并导引来自所述发光二极管之光,

其中所述耦合透镜包含一准直透镜构件,所述准直透镜构件用于准直来自所述发光二极管之光;一第一透镜表面,用于全反射自所述发光二极管之光至所述第一方向;以及一第二透镜表面,用于全反射在所述第一方向之光至一第二方向。

19.如第18项所述之系统,其中经所述第二透镜表面全反射后之所述光耦合入所述光导引器,经导引器下表面之特定图案漫反射后再经由上表面射出导引器外部。

20.如第19项所述之系统,其中所述光导引器之下表面具有用于反射光之多个凸点或V形槽。

21.如第17项所述之系统,所述多个发光二极管被置于所述光导引器中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港应用科技研究院有限公司,未经香港应用科技研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610161742.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top