[发明专利]等离子体处理装置和高频电力供给装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，包括：

处理容器，其内部可减压；

第1电极，配置在所述处理容器内，并且在其上载置被处理基板；

处理气体供给部件，用于将处理气体供给到所述处理容器内；

筒状支撑部，支撑所述第1电极；

空间部，基于所述筒状支撑部和所述第1电极而形成；以及

高频馈电部，配置在所述空间部，

并且，通过从所述高频馈电部传输到所述第1电极的、具有第1频率的第 1高频电力产生等离子体，并对所述被处理基板实施等离子体处理，

该等离子体处理装置的特征在于，

所述高频馈电部，包括：

第1高频电源部，输出所述第1高频电力；

第1匹配器，对所述第1频率获得阻抗的匹配；以及

传输线路，从所述第1高频电源部至所述第1匹配器传输所述第1高频电 力。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

给所述第1电极传输所述第1高频电力及具有第2频率的第2高频电力，

所述高频馈电部包括：

第2匹配器，对所述第2频率获得阻抗的匹配。

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述高频馈电部沿铅直方向具有三个框体，

所述三个框体中分别具有所述第1高频电源部、所述第1匹配器、所述第 2匹配器。

4.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第1高频电源部包括：

第1高频电力发生部，输入直流电力并生成所述第1高频电力；以及

滤波器，选择性地通过来自所述第1高频电力发生部的所述第1高频电力。

5.如权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第1高频电源部还包括：

循环器，其在所述第1高频电力发生部和所述滤波器之间，使来自所述第 1高频电力发生部的行波通过，并且吸收来自所述第1匹配器的反射波。

6.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述传输线路由同轴管构成。

7.一种高频电力供给装置，其特征在于，

其被配置在权利要求1所述的等离子体处理装置的空间部。

8.如权利要求7所述的高频电力供给装置，其特征在于，

给所述第1电极传输所述第1高频电力及具有第2频率的第2高频电力，

该高频电力供给装置还包括：

第2匹配器，对所述第2频率获得阻抗的匹配。

9.如权利要求8所述的高频电力供给装置，其特征在于，

该高频电力供给装置沿铅直方向还具有三个框体，

所述三个框体中分别具有所述第1高频电源部、所述第1匹配器、所述第 2匹配器。

10.如权利要求7所述的高频电力供给装置，其特征在于，

所述第1高频电源部包括：

第1高频电力发生部，输入直流电力并生成所述第1高频电力；以及

滤波器，选择性地通过来自所述第1高频电力发生部的所述第1高频电力。

11.如权利要求10所述的高频电力供给装置，其特征在于，

所述第1高频电源部还包括：

循环器，其在所述第1高频电力发生部和所述滤波器之间，使来自所述第 1高频电力发生部的行波通过，并且吸收来自所述第1匹配器的反射波。

12.如权利要求7所述的高频电力供给装置，其特征在于，

所述传输线路由同轴管构成。