[发明专利]改良保护层的单面双记录层光碟片及其制造方法

说明书

技术领域

本发明是关于一种单面双记录层光碟片及其制造方法，尤其关于一种改良保护层的单面双记录层光碟片及其制造方法。

背景技术

光碟片可以储存多种格式的资料，包括影像资料、电脑数位影像档及一般文字档等。光碟片是新一代光储存市场中最便利的储存媒介，可应用的范围相当的广泛，诸如当作图书馆藏、资料备份、电子出版、影像资料储存、个人医疗纪录管理等应用。

为了有效增加光碟片的储存空间，一种习知之解决方案便是额外增加一记录层，成为双记录层之光碟片。请参照图1A至图1C，以可录一次式光碟片举例说明一种习知制备单面双记录层光碟片的方法。如图1A所示，首先，于第一基板11之第一涂布表面11a形成第一记录层111，再形成半反射层112层叠于第一记录层111，如此即形成一第一存取层1。请参照图1B，接着，于第二基板12之第二涂布表面12a形成反射层122，再形成第二记录层121层叠于反射层122，如此即形成一第二存取层2。请参照图1C，最后，将第一存取层1之半反射层112与第二存取层2之第二记录层121相向，以贴合层13贴合即得单面双记录层光碟片3。

贴合层13之材料多为UV硬化胶，而UV硬化胶与第二记录层之染料会产生物理及化学变化，影响光碟片记录数据的正确性及保存性。为了确保光碟片记录数据的正确性及保存性，即在贴合层13以及第二记录层121之间加入一保护层14，以避免贴合层13与第二记录层121产生物理或化学变化，如图2所示之单面双记录层光碟片4。保护层14之材料必须具备高透光性以及不与贴合层13及第二记录层121产生反应的特性。习知保护层14之材料多为介电材料，例如锌硫化物或硅氮化物，且保护层的厚度多在100～150nm之间，以有效避免贴合层13与第二记录层121产生反应。

以介电材料作为保护层14虽具有较佳的透光性，但是却有许多缺点。例如，介电材料多为分子结构致密之陶瓷材料，其采购成本相对较高，且无法以直流溅镀的方式进行涂膜工程，而必须以射频溅镀的方式进行。因此，必须使用价格较昂贵之射频电源供器来进行涂膜工程，且生产参数较难控制。此外，由于物理上的限制，介电材料以射频溅镀的方式来形成厚度100～150nm之保护层需要较长的成膜时间。光碟片若在真空溅镀腔内的停留时间过长，光碟片将因腔内的高温以及介电材料层的内应力(internalstress)使得光碟片扭曲变形，而降低了光碟片的合格率或是光碟片的保存性不佳。

综上所述，如何改良单面双记录层光碟片的保护层，以降低生产成本且易于生产便是目前亟需努力的目标。

发明内容

针对上述问题，本发明的目的在于提供一种改良保护层的单面双记录层光碟片及其制造方法，其可降低生产成本且易于生产，提高光碟片的合格率。

为达上述目的，本发明的单面双记录层光碟片包含一第一存取层、一第二存取层、一贴合层以及一保护层。该第一存取层以及该第二存取层用以供一驱动装置存取该光碟片。该第二存取层包含一第二基板，其具有一第二涂布表面；一反射层层叠于该第二涂布表面；以及一第二记录层层叠于该反射层。该贴合层用以将该第一存取层与该第二存取层贴合，其中该第二记录层相向于该第一存取层。该保护层则层叠于该第二记录层与该贴合层之间，该保护层是由金属或硅所形成。

本发明亦揭示一种制造上述单面双记录层光碟片的方法，其包含以下步骤。首先，制备一第一存取层；制备一第二存取层，其步骤包含提供一第二基板，其具有一第二涂布表面；形成一反射层层叠于该第二涂布表面；以及形成一第二记录层层叠于该反射层。接着，形成一保护层层叠于该第二记录层，该保护层是由金属或硅所形成。最后，贴合该第一存取层与该第二存取层，其中该第二记录层相向于该第一存取层。

依据本发明的改良保护层的单面双记录层光碟片及其制造方法，由于改良后之保护层，其材料能够以直流溅镀的方式进行涂膜工程，生产参数易于控制，因此可降低生产成本。此外，由于材料的特性，相对较薄之保护层厚度即可有效避免贴合层与第二记录层产生反应，因此溅镀保护层的时间较短，可减低溅镀腔之高温对光碟片所造成的扭曲变形，而有效提高光碟片的生产合格率。

附图说明

图1A为单面双记录层光碟片的第一存取层之局部剖面示意图。

图1B为单面双记录层光碟片的第二存取层之局部剖面示意图。

图1C为缺少保护层的单面双记录层光碟片的局部剖面示意图。

图2为单面双记录层光碟片的局部剖面示意图。

具体实施方式