[发明专利]钻石镀膜的制造方法及其应用

权利要求书

1.一种钻石镀膜的制造方法，其特征在于，包含下列步骤：

提供一底材，该底材的耐热范围为200℃～400℃；

于该底材上涂布一粉末的转换层；

于该转换层上涂布一钻石膜，并由该转换层提高该钻石膜的涂布均匀性；及

加热使该钻石膜镀膜于该转换层，并使该底材热分解。

2.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该底材为高分子材料。

3.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该底材的厚度范围为0.05mm～30mm。

4.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该转换层的厚度范围为0.01μm～100μm。

5.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该转换层为碳质薄膜。

6.根据权利要求5所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该碳质薄膜的材料选自类钻石、非晶碳、纳米结晶钻石所成组合。

7.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该转换层为金属薄膜。

8.根据权利要求7所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该金属薄膜的材料选自钼、钛、钨、铬、铜所成组合。

9.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该转换层为陶瓷薄膜。

10.根据权利要求9所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该陶瓷薄膜的材料选自碳化硅(SiC)、碳化钛(TiC)、碳化铬(CrC)、碳化钨(WC)、氮化硼(BN)、碳化硼(B₄C)、氮化硅(Si₃N₄)、氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)、硅碳氮化合物(SiCN)、硼碳氮(BCN)所成组合。

11.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该钻石膜的厚度范围为1μm～500μm。

12.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该加热使该钻石膜镀膜于该转换层，并使该底材热分解的步骤，加热至600℃以上。

13.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该加热使该钻石膜镀膜于该转换层，并使该底材热分解的步骤之后，还包含有利用机械研磨的方式清除该底材的步骤。

14.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该加热使该钻石膜镀膜于该转换层，并使该底材热分解的步骤之后，还包含有利用溶剂腐蚀的方式清除该底材的步骤。

15.根据权利要求1所述钻石镀膜的制造方法，其特征在于，该加热使该钻石膜镀膜于该转换层，并使该底材热分解的步骤之后，还包含有利用光化学解离的方式清除该底材的步骤。

16.一种振动膜，其特征在于，利用权利要求1所述的钻石镀膜的制造方法所制成，包含下列步骤：

提供一底材，该底材的耐热范围为200℃～400℃；

于该底材上涂布一粉末的转换层；

于该转换层上涂布一钻石膜，并由该转换层提高该钻石膜的涂布均匀性；及

加热使该钻石膜镀膜于该转换层，并使该底材热分解。

17.一种修整器，包含有一基材以及一钻石薄膜，其特征在于，该钻石薄膜利用权利要求1所述的钻石镀膜的制造方法所制成，包含下列步骤：

提供一底材，该底材的耐热范围为200℃～400℃；

于该底材上涂布一粉末的转换层；

于该转换层上涂布一钻石膜，并由该转换层提高该钻石膜的涂布均匀性；及

加热使该钻石膜镀膜于该转换层，并使该底材热分解。