[发明专利]氧化钛涂布剂及氧化钛涂膜的形成方法无效
| 申请号： | 200580049025.X | 申请日： | 2005-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN101137731A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 上塚洋;志知哲也;大鹿航志;藤嶋昭;高木克彦 | 申请（专利权）人： | 东海旅客铁道株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/02 | 分类号： | C09D183/02;C09D7/12;C09D185/00;C09D1/00;B01J35/02;B05D7/24;C09C1/36;C01G23/047 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化 钛涂布剂 钛涂膜 形成 方法 | ||
1.一种涂布剂，其中，含有片状氧化钛微粒。
2.如权利要求1所述的涂布剂，其中，含有由四烷氧基硅烷制备的氧化硅溶胶。
3.如权利要求1所述的涂布剂，其中，含有由四烷氧基钛制备的氧化钛溶胶。
4.如权利要求1所述的涂布剂，其中，含有由烷氧基铝制备的氧化铝溶胶。
5.如权利要求1～4中任意一项所述的涂布剂，其中，除片状氧化钛微粒以外，还含有片状以外形状的氧化钛微粒。
6.如权利要求5所述的涂布剂，其中，上述片状以外形状的氧化钛微粒是锐钛矿、金红石、板钛矿中的任意一种氧化钛微粒。
7.如权利要求1～6中任意一项所述的涂布剂，其中，在基材上涂敷上述涂布剂而形成的涂膜的表面粗糙度在上述基材的表面粗糙度的1～2倍的范围。
8.如权利要求1～7中任意一项所述的涂布剂，其中，涂敷上述涂布剂而形成的涂膜的硬度取决于片状氧化钛微粒。
9.如权利要求1～8中任意一项所述的涂布剂，其中，在基材上涂敷上述涂布剂时的反射率在上述基材本身反射率的90～120％的范围。
10.如权利要求1～9中任意一项所述的涂布剂，其中，在具有透过性的基材上涂敷上述涂布剂时的透过率在上述基材本身透过率的90～100％的范围。
11.一种涂膜的形成方法，其中，具有涂敷权利要求1～10中任意一项所述涂布剂的涂敷工序，以及干燥所涂敷的上述涂布剂的干燥工序。
12.如权利要求11所述的涂膜的形成方法，其中，在上述干燥工序中进行加热。
13.一种涂膜，其中，按照权利要求11或者12所述的涂膜的形成方法来形成。
14.如权利要求13所述的涂膜，其中，具有上述片状氧化钛微粒按一定的取向性层叠的微细结构。
15.一种玻璃制品，其中，具有由玻璃形成的基材、以及在该基材表面上形成的权利要求13或者14所述的涂膜。
16.一种金属制品，其中，具有由金属形成的基材、以及在该基材表面上形成的权利要求13或者14所述的涂膜。
17.一种陶瓷制品，其中，具有由陶瓷形成的基材、以及在该基材表面上形成的权利要求13或者14所述的涂膜。
18.一种耐热性高分子制品，其中，具有由耐热性高分子材料形成的基材、以及在该基材表面上形成的权利要求13或者14所述的涂膜。
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C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
