[发明专利]4－氨基哌啶衍生物无效
| 申请号： | 200580043832.0 | 申请日： | 2005-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN101090888A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | 马科斯·伯林格;丹尼尔·洪齐格;伯德·库恩;伯德·米歇尔·勒夫勒;托马斯·吕贝斯;法比耶纳·里克兰 | 申请（专利权）人： | 霍夫曼－拉罗奇有限公司 |
| 主分类号： | C07D211/58 | 分类号： | C07D211/58;C07D211/60;C07D277/04;A61K31/4468;A61K31/45 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王旭 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氨基 哌啶 衍生物 | ||
1.式I化合物，
其中
R1选自：
苯基，所述苯基是未取代的或被低级烷基、低级烷氧基、苯基、苯氧基、卤素或低级卤代烷基独立地单、双或三取代；
萘基，所述萘基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代；
四氢萘基；
C3-7-环烷基；
-(CHR3)m-苯基，其中m是1、2或3，并且苯基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代，并且其中R3独立地选自氢、低级烷基或苯基；
-(CH2)n-杂芳基，其中n是1、2或3；
-(CH2)n-杂芳基，其中n是1、2、3，并且杂芳基被低级烷基、卤素、低级卤代烷基或低级烷氧基独立地单、双或三取代；
-C(O)-CH2-苯基，其中苯基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代；
-C(O)-CH2-杂芳基；和
-C(O)-CH2-杂芳基，其中杂芳基被低级烷基、卤素、低级卤代烷基或低级烷氧基独立地单、双或三取代；
R2选自
低级烷基、低级卤代烷基；
苯基，所述苯基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基或低级烷氧基独立地单、双或三取代；
萘基，所述萘基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基或低级烷氧基独立地单、双或三取代；
杂芳基，所述杂芳基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基或低级烷氧基独立地单、双或三取代；
-COOH；
-C(O)-NR4R5；其中
R4和R5是低级烷基，或者与它们所连的氮原子一起形成4-、5-或6-
元杂环，该杂环可以含有选自O、N或S的另外的杂原子；及其药用盐。
2.根据权利要求1的式I化合物，其中R1选自
苯基，所述苯基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代；
萘基，所述萘基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代；
-(CHR3)m-苯基，其中m是1或2，并且苯基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代，并且其中R3是氢；
-(CH2)n-杂芳基，其中n是1或2；
-(CH2)n-杂芳基，其中n是1或2，并且杂芳基被低级烷基、卤素、低级卤代烷基或低级烷氧基独立地单、双或三取代，
-C(O)-CH2-苯基，其中苯基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代；
-C(O)-CH2-杂芳基；和
-C(O)-CH2-杂芳基，其中杂芳基被低级烷基、卤素、低级卤代烷基或低级烷氧基独立地单、双或三取代。
3.根据权利要求1或2的式I化合物，其中R1选自：
苯基，所述苯基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代；
萘基，所述萘基是未取代的或被低级烷基、卤素、低级卤代烷基、低级烷氧基、苯基或苯氧基独立地单、双或三取代；和
-(CHR3)m-苯基，其中m是1或2，并且苯基是未取代的或被低级烷氧基单、双或三取代，并且其中
R3是氢。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于霍夫曼－拉罗奇有限公司，未经霍夫曼－拉罗奇有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580043832.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
