[发明专利]光学用双轴取向聚酯薄膜有效

专利信息
申请号: 200580043524.8 申请日: 2005-12-09
公开(公告)号: CN101080442A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 佐藤嘉记;古谷健 申请(专利权)人: 三菱聚酯薄膜公司
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08L67/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 邸万杰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 用双轴 取向 聚酯 薄膜
【权利要求书】:

1.一种光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在于,由包括下述构成 成分的聚酯形成:

由芳香族二羧酸与乙二醇缩聚得到的主要构成成分,其中,所述 芳香族二羧酸选自对苯二甲酸和2,6-萘二羧酸,与

至少一种主要构成成分以外的第三成分,该第三成分选自二甘醇、 三甘醇、丙二醇、丁二醇、1,4-环己二甲醇和新戊二醇,总含量为3.0~ 8.0摩尔%,

所述薄膜的雾度为0~3.0%的范围。

2.如权利要求1所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在于: 聚酯是由主要构成成分和第三成分构成的共聚聚酯。

3.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在 于:作为第三成分的二醇为选自二甘醇或1,4-环己二甲醇中的1种以 上。

4.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在 于:用透射法对1片薄膜测定的色调b*值为-5~+3。

5.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在 于:以180℃热处理10分钟后,低聚物向薄膜表面的析出量的表里面 之和为15mg/m2以下。

6.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在 于:在薄膜中存在的最大直径150μm以上的异物为0.0个/m2,最大直 径30μm以上的异物为1.5个/m2以下。

7.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在 于:在薄膜表面存在的宽度10μm以上的伤的个数为10个/m2以下。

8.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在 于:在薄膜面内的延迟的最大值和最小值之差为200nm以下。

9.如权利要求1或2所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在 于:在薄膜的单面或双面还具有涂布层。

10.如权利要求9所述的光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在于: 每30m2薄膜的涂布脱落的个数N为0~20个。

11.一种光学用双轴取向聚酯薄膜,其特征在于,由包括下述构成 成分的聚酯形成:

由芳香族二羧酸与乙二醇缩聚得到的主要构成成分,其中,所述 芳香族二羧酸选自对苯二甲酸和2,6-萘二羧酸,与

至少一种主要构成成分以外的第三成分,该第三成分选自二甘醇 和1,4-环己二甲醇,总含量为3.0~8.0摩尔%,

所述聚酯薄膜的雾度为0~3.0%的范围。

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