[发明专利]溅射涂覆基片的制造方法、磁控管源和具有这种源的溅射室有效
| 申请号： | 200580007976.0 | 申请日： | 2005-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN1930652A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | S·卡德勒克;E·库格勒;W·哈格 | 申请（专利权）人： | OC欧瑞康巴尔斯公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元;张志醒 |
| 地址： | 列支敦士*** | 国省代码： | 列支敦士登;LI |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 涂覆基片 制造 方法 磁控管源 具有 这种 | ||
【权利要求书】：
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