[发明专利]制造垂直场效应晶体管的方法和场效应晶体管有效
| 申请号： | 200480032581.1 | 申请日： | 2004-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1875489A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | H·图斯 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技股份公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/336;H01L29/788 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元;梁永 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制造 垂直 场效应 晶体管 方法 | ||
【说明书】：
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