[发明专利]用于抛光和研磨光学和半导体表面的流体动力学径向流设备有效
| 申请号： | 200480020551.9 | 申请日： | 2004-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1822919A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 埃尔费戈·吉列尔莫·鲁伊斯施奈德;埃丽卡·索恩洛佩斯－福门特;路易斯·萨拉斯卡萨莱斯;埃斯特万·安托林·卢纳阿吉拉尔 | 申请（专利权）人： | 墨西哥国立自治大学 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24C1/08;B24B13/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;张英 |
| 地址： | 墨西哥*** | 国省代码： | 墨西哥;MX |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 研磨 光学 半导体 表面 流体动力学 径向 设备 | ||
【说明书】：
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