[发明专利]原稿台玻璃

说明书

[技术领域]

本发明涉及原稿读取机中使用的原稿台玻璃，例如在复印机或图像扫描仪中使用的具有抗静电功能的原稿台玻璃。

[背景技术]

过去，在具备自动原稿供给装置的复印机中，为了防止由于在原稿供给时产生的静电导致的塞纸，为了不产生静电，将原稿台玻璃的表面用通过真空成膜法形成的ITO膜(掺杂了锡的氧化铟形成的膜)或通过热分解成膜法形成的氧化锡膜等透明导电膜覆盖。另外，原稿台玻璃的表面电阻要求在1MΩ以下，期望更优选在2kΩ以下。

另外，由于一旦原稿台玻璃表面的摩擦系数大，就容易产生塞纸，一般进行的是在原稿台玻璃表面涂布润滑剂。因此，为了提高润滑剂的效果，特别是对于表面凹凸容易变大的氧化锡膜，将表面研磨平滑。

更进一步地，为了使原稿台玻璃的强度提高至所要求的水平，作为其强化的策略，一般进行的是通过所谓风冷强化法或化学强化法等在玻璃表面上形成压缩应力层。

另外，在具备自动原稿供给装置的复印机的场合，采用滚筒作为使原稿移动的装置，插入原稿后在原稿台玻璃上通过滚筒施加局部荷重。因此，会发生透明导电膜的表面微观地粗糙，透明导电膜变薄并最终剥离。其结果是，由于存在原稿台玻璃表面中的散射或反射等光学特性发生局部的变化，在正确读取原稿变得困难的情况，透明导电膜中要求具有规定的耐摩性。

如上所述，原稿台玻璃要求具有抗静电性能，小的摩擦系数，强度以及耐摩性。

但是，ITO膜，与氧化锡膜相比，虽然具有容易得到平滑的表面，摩擦系数小，且化学强化或风冷强化对膜品质的影响小这样的优点，但关于耐摩性，与实用上没问题的氧化锡膜相比，具有不根据其形成方法或条件而耐摩性变差这样的问题。

另一方面，氧化锡膜，虽然耐摩性优异，但难以得到平滑的表面，摩擦系数变大，而且成膜后一旦实施风冷强化处理，由于急剧的温度变化，膜上会发生龟裂，成膜后一旦实施化学强化处理，就会发生膜的剥落等，另外，成膜前一旦实施化学强化或风冷强化，存在作为强化处理效果的玻璃表面的压缩应力降低的问题。

[发明内容]

因此，本发明鉴于现有技术具有的这些问题，其目的是提供具有抗静电性能和充分的耐摩性、表面的摩擦系数在实用时十分小、且保持了玻璃基板强度的原稿台玻璃。

为了解决上述课题的权利要求1所涉及的发明，是在原稿读取机用的原稿台玻璃中，对玻璃基板预先实施化学强化或风冷强化，然后在上述玻璃基板的至少一个表面上形成掺杂了锡的氧化铟形成的膜(ITO膜)，该氧化铟膜的膜厚为15nm～20nm。

权利要求2所涉及的发明，是在原稿读取机用的原稿台玻璃中，在玻璃基板的至少一个表面上形成掺杂了锡的氧化铟形成的膜(ITO膜)，该氧化铟膜的膜厚为15nm～20nm。

如果根据如上说明的权利要求1涉及的发明，由于ITO膜的膜厚为15nm～20nm，ITO的结晶可以充分地成长，形成结晶结构致密的薄膜，因此具有优异的耐摩性。

另外，由于预先在玻璃基板上实施化学强化和风冷强化，其后在玻璃基板的至少一个表面上形成ITO膜，能够使表面的摩擦系数在实用上十分小，并且玻璃基板的强度可以比不经过强化处理的基板更高。

如果根据权利要求2涉及的发明，由于使ITO膜的膜厚为15nm～20nm，ITO膜的结晶可以充分成长，形成结晶结构致密的薄膜，因此具有优异的耐磨损性。

另外，由于未进行玻璃基板的强化处理，在不必要求比常用的玻璃基板更高强度的情况下，可以谋求低成本，而且由于玻璃基板的至少一个表面上形成ITO膜，可以使表面的摩擦系数在实用上十分小。

[附图说明]

下面基于附图说明本发明的实施方式，其中：

图1是表示在玻璃基板上通过真空成膜法形成的ITO膜的结晶结构的截面模式图，(a)是膜厚7nm以下(t≤7nm)，(b)是膜厚在7nm～15nm(7nm≤t≤15nm)，(c)是膜厚在15nm以上(t≥15nm)；

图2是耐摩试验装置的说明图：

图3是表示ITO膜的膜厚与电阻值的关系的图；以及

图4是表示滑动试验结果(滑动次数与电阻变化率的关系)的图。

[具体实施方式]

下面基于附图说明本发明的实施方式。此处，图1是表示在玻璃基板上通过真空成膜法形成的ITO膜的结晶结构的截面模式图，图2是耐摩试验装置的说明图，图3是表示ITO膜的膜厚与电阻值的关系的图，图4是表示滑动试验结果(滑动次数与电阻变化率的关系)的图。