[发明专利]抗反射涂层组合物

权利要求书

1、一种涂覆的基底，包括：

一层含有离子热酸生成剂和树脂的抗反射组合物层；以及

在所述抗反射组合物层之上的一层光致抗蚀剂层。

2、按照权利要求1所述的基底，其特征在于所述的抗反射组合物层还包括一交联剂组分。

3、按照权利要求1或2所述的基底，其特征在于所述抗反射组合物是交联的。

4、按照权利要求1至3任一项所述的基底，其特征在于所述热酸生成剂是磺酸盐。

5、按照权利要求4所述的基底，其特征在于所述磺酸盐包括含有一个或多个氨基的相反离子。

6、按照权利要求1至5任一项所述的基底，其特征在于所述热酸生成剂包括一种含有氮的阳离子组分。

7、按照权利要求1至5任一项所述的基底，其特征在于所述热酸生成剂包括一种胺阳离子组分。

8、按照权利要求1至5任一项所述的基底，其特征在于所述热酸生成剂包括一种脂族伯、仲或叔胺阳离子组分。

9、按照权利要求1至8任一项所述的基底，其特征在于所述热酸生成剂具有小于500的分子量。

10、按照权利要求1至8任一项所述的基底，其特征在于所述热酸生成剂是一种聚合材料。

11、按照权利要求1至10任一项所述的基底，其特征在于所述抗反射组合物包括一种由酸交联的交联剂。

12、按照权利要求1至11任一项所述的基底，其特征在于所述抗反射组合物包括一种与热酸生成剂不同的树脂。

13、按照权利要求1至12任一项所述的基底，其特征在于所述抗反射组合物层包括芳香基。

14、按照权利要求1至13任一项所述的基底，其特征在于所述抗反射组合物层包括蒽基、亚萘基或苯基。

15、按照权利要求1至14任一项所述的基底，其特征在于所述抗反射组合物层包括一种具有苯基的树脂。

16、按照权利要求1至15任一项所述的基底，其特征在于所述抗反射组合物层包括一种具有萘基的树脂。

17、按照权利要求1至16任一项所述的基底，其特征在于所述抗反射组合物层包括一种具有蒽基的树脂。

18、按照权利要求1至17任一项所述的基底，其特征在于所述光致抗蚀剂组合物是化学扩增的正型光致抗蚀剂组合物。

19、按照权利要求1至18任一项所述的基底，其特征在于所述光致抗蚀剂组合物是含有光酸不稳定的缩醛基的树脂。

20、按照权利要求1至18任一项所述的基底，其特征在于所述光致抗蚀剂包括含有光酸不稳定酯基的树脂。

21、一种包括离子热酸生成剂化合物的抗反射组合物。

22、按照权利要求21所述的抗反射组合物，其特征在于所述热酸生成剂是一种磺酸盐。

23、按照权利要求21或22任一项所述的抗反射组合物，其特征在于所述热酸生成剂是芳基磺酸盐。

24、按照权利要求21至23任一项所述的抗反射组合物，其特征在于所述热酸生成剂是具有一个或多个任意取代的苯基、任意取代的萘基或者任意取代的蒽基的取代基的磺酸盐。

25、按照权利要求21至24任一项所述的抗反射组合物，其特征在于所述磺酸盐是一种胺盐。

26、按照权利要求21至25任一项所述的抗反射组合物，其特征在于所述热酸生成剂化合物包括一种含有氮的阳离子组分。

27、按照权利要求21至26任一项所述的抗反射组合物，其特征在于所述热酸生成剂是三(C₁-C₁₂烷基)铵盐。

28、一种形成光致抗蚀剂浮雕影象的方法，包括以下步骤：将权利要求21至27任一项所述的抗反射组合物涂覆到基底上；将光致抗蚀剂层涂覆到抗反射组合物层上；以及曝光并显影该光致抗蚀剂层，从而得到抗蚀剂的浮雕影象。