[发明专利]真空成膜装置

权利要求书

1、一种真空成膜装置，包括用于保持内部空间的真空氛围气的成膜用真空腔和为辅助成膜而在所述真空腔内使用的辅助器具，其特征在于，

所述辅助器具通过设于所述真空腔的开口部跨所述真空腔的内外而设置，固定于所述真空腔外设置的静止结构件上，同时，通过由可维持所述真空腔内的真空氛围气的材质形成并具有弹性的连接部件安装在所述真空腔上。

2、如权利要求1所述的真空成膜装置，其特征在于，所述连接部件是波纹管，以使所述辅助器具和所述开口部之间密封的方式设置。

3、如权利要求1或2所述的真空成膜装置，其特征在于，所述辅助器具是基板架、用于检测膜厚的膜厚传感器、用于调节膜厚的膜厚调节板、用于蒸发膜的原料的蒸发源及用于检测要成膜的基板的温度的温度传感器中的任何一个或多个。

4、一种真空成膜装置，其特征在于，包括：真空腔，其内部空间形成真空氛围气；蒸发源，用于蒸发配置在真空腔内的膜的原料；基板架，通过真空腔的开口将表面上形成膜的基板以使所述表面面朝真空腔中心的方式支承在真空腔内的空间中；光监测器投光部，固定在真空腔外部的静止结构件上，自真空腔的外部向所述基板照射光；光监测器受光部，固定在真空腔外部的静止结构件上，接收来自所述基板的光，所述基板架固定在所述真空腔外部的静止结构件上，同时，通过由具有弹性且可保持内侧的真空氛围气的材质形成的缓冲装置安装在真空腔上。

5、如权利要求4所述的真空成膜装置，其特征在于，所述光监测器受光部一体组装在覆盖所述基板架的罩的内侧，且配设于基板架支承的所述基板的表面的背面侧，所述光监测器投光部和光监测器受光部夹着真空腔中心相对设置。

6、如权利要求4或5所述的真空成膜装置，其特征在于，所述缓冲装置是波纹管，所述基板架与所述波纹管的一端侧一起固定在所述真空腔外部的静止结构件上，且所述波纹管的另一端侧安装在所述真空腔的开口的周边。