[发明专利]曝光方法及曝光装置

权利要求书

1.一种曝光方法，适用于在一基板上接合一图案并曝光出所希望图案，其特征为：该方法包括：

进行一预备曝光工艺以于该基板上曝光出与该图案不同的一第一标记与一接合图案；以及

进行一设定工艺，该设定工艺根据曝光于该基板上的该第一标记与该图案间的相对位置关系，设定曝光该接合图案时的补正量。

2.如权利要求1所述的曝光方法，其特征为：其中包括于每个该接合图案上曝光出该第一标记。

3.如权利要求2所述的曝光方法，其特征为：其中该图案具有以一设定间距排列的一单位图案；以及

该第一标记对应该设定间距而排列。

4.如权利要求1所述的曝光方法，其特征为：其中包括重叠曝光该第一标记与该图案。

5.如权利要求1所述的曝光方法，其特征为：其中该图案为一负片图案则该第一标记为一正片图案；该第一标记为该负片图案则该图案为该正片图案。

6.如权利要求1所述的曝光方法，其特征为：其中该基板上形成有复数层的图案，且该图案为形成于第一层的图案。

7.如权利要求1所述的曝光方法，其特征为：其中该第一标记形成于罩幕的中央。

8.如权利要求1所述的曝光方法，其特征为：其中该接合图案是由相同图案所构成。

9.一种曝光装置，适用于在一基板上接合一图案以曝光出所希望图案，其特征为：该装置包括：

一存储装置，该存储装置可根据该基板上所曝光的与该图案不同的一第一标记与一接合图案之间的相对位置关系，存储曝光该接合图案时的补正量；以及

一补正装置，该补正装置可根据存储于该存储装置内的补正量于该基板上接合该图案。