[实用新型]显示面板的表面处理装置

说明书

技术领域

本实用新型是提供一种表面处理装置，尤指一种制作一显示面板的光阻隔离墙的表面处理装装置。

背景技术

有机电激发光显示器(organic electroluminescent display)元件因为重量轻，高对比、应答速度高、耗电低及亮度高等优点，近年来成为备受注目的新世代平面显示器。然而，有机电激发光元件由于其技术较新、发展相较于其他显示器晚，技术尚未完全成熟，故目前在商品化过程及大量生产过程，还有许多障碍有待克服。

已知的制作方法，会先在阳极电极表面上制作复数条互相平行但与阳极电极垂直的光阻阻隔墙，用来作为阴影光罩(shadow nask)，然后于光阻阻隔墙的间隔区域内的阳极电极与基板表面上，蒸镀有机发光材料层以及阴极电极。但是当光阻阻隔墙的剖面形状近似矩形时，在蒸镀阴极电极的过程中，常会因侧向扩散机率提高而导致阴极电极与阳极电极接触，进而产生短路。尤其当光阻阻隔墙的厚度低于4μm以下时，更容易发生上述短路的现象。美国专利US592970揭露一种制作方法，可以将光阻阻隔墙制作成一倒梯形横切面，使倒梯形的上底较其下底长出许多，可以作为阴影光罩。但是仍有以下所述的若干先天缺点难以克服：首先，倒梯形横切面的平行隔离层的梯形在形成时，其有高度或厚度的限制(大于4μm)，若倒梯形的高度过低，使其阴形突出部分变少，会降低镀膜时的隔离效果，甚至会造成阴极线路间的导通；而若欲确保镀膜的隔离效果，则需要加高倒梯形横切面的平行隔离层的高度或厚度至约4μm以上，但对于一般线宽约为15μm以上的显示器而言，如此限制便无法大幅提高显示器的解析度，隔离层也将因变厚而易于崩落。故以此方法制造的有机电激发光显示器，其厚度无法再有效降低，不符合目前显示器朝向轻、薄、短、小的需求，而因此其解析度也受到限制无法大幅地提升。另外，由于倒梯形横切面的平行隔离层经光罩图样(pattern)曝光、显影后，通常需要进行有机层及电极层的蒸镀，倒梯形横切面斜面于蒸镀时的侧向扩散(1ateral diffusion)机率很大，容易导致阴极镀层短路，尤其在厚度低于4μm以下时，镀层短路更易发生，因此导致制造良率的降低。

为了解决上述的问题，美国专利US6013538揭露一种多层底切(undercut)的方式，是利用多次镀膜、显影或蚀刻的方式来制作具有T形状顶部的光阻阻隔墙。但是多层底切的方式会产生许多制程瓶颈，例如光阻阻隔墙的厚度控制、线宽限制、图案准确性等等，而且整个制程步骤繁琐，所需耗费的材料与时间成本过高，因此并不适用于大量生产作业，也无法确保光阻阻隔墙的制作品质。有鉴于此，目前亟需一种表面处理装置，可以在兼顾制作成本与制作品质的考量下，制作出具有T形状顶部的光阻阻隔墙，以应用于有机电激发光显示器的大量制造，而且可以降低材料浪费的成本，避免有机电光元件显示器平行隔离层崩落，提高解析度，降低有机电激发光显示器及其平行隔离层间导通的厚度，避免有机电激发光显示器短路以提高制造良率。

创作人爰因于此，本于积极创作的精神，亟思一种可以解决上述问题的“有机电激发光显示面板的光阻隔离墙的表面处理装置”，几经研究实验终至完成此项创作。

发明内容

本实用新型的主要目的是在提供一种制作一显示面板的表面处理装置，以便能制作出具有下形状顶部的光阻阻隔墙，以有效避免有机电激发光显示面板的短路现象。

本实用新型的次要目的是在提供一种显示面板的表面处理装置，可以提高光阻隔离墙的制作良率。

本实用新型的又一目的是在提供一种显示面板的表面处理装置，可以降低光阻隔离墙的制作成本。

本实用新型的另一目的是在提供一种显示面板的表面处理装置，可以大幅提升有机电激发光显示面板的解析度。