[发明专利]光学读取装置无效
| 申请号: | 01141241.0 | 申请日: | 2001-08-22 |
| 公开(公告)号: | CN1347098A | 公开(公告)日: | 2002-05-01 |
| 发明(设计)人: | 古畑均;西村有孝 | 申请(专利权)人: | 日本先锋公司 |
| 主分类号: | G11B7/12 | 分类号: | G11B7/12;G11B7/135 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张志醒 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 读取 装置 | ||
1.一种光学读取装置,包括:
光发射装置,它具有至少第一光源,用于发射第一激光束;和第二光源,用于发射波长不同于上述第一激光束的第二激光束;并且所述第一和第二光源紧密排列;
光学系统,它由用于引导所述激光束至记录媒介的辐射光路和用于引导由所述记录媒介反射的激光束至光电探测器的反射光路构成;以及
固定元件,用于固定所述光学系统的光学元件,
其中,在所述辐射光路上靠近所述光发射装置的安装位置,所述光学系统包括:第一光栅,它使所述第一激光束作为0级光线通过,折射所述第二激光束,并产生一初级折射光,其光轴与所述第一激光束的光轴重合;以及第二光栅,用于使用由所述第一光栅提供的激光束作为主光束,并产生相对于所述主光束的子光束,该子光束用于产生根据三束方法的跟踪误差信号;和
所述固定元件固定由所述光发射装置和所述第一、第二光栅组成的一个整体单元。
2.根据权利要求1的装置,其中,所述的第一和第二光栅由一个全息装置形成。
3.根据权利要求2的装置,其中,所述全息装置是这样的一个装置,所述的第一光栅形成在盘形基片的一个表面,所述的第二光栅形成在所述盘形基片的另一表面。
4.根据权利要求2的装置,其中,所述第一光栅铜焊在所述全息装置中。
5.根据权利要求1的装置,其中,在所述第一光栅中所述初级折射光的光量大于具有不同偏光性的另一初级折射光的光量。
6.根据权利要求1的装置,其中,所述第一激光束的波长短于所述第二激光束的波长。
7.一种光学读取装置,包括:
光发射装置,它具有至少第一光源,用于发射第一激光束,和第二光源,用于发射波长不同于所述第一激光束的第二激光束,并且其中,所述第一和第二光源紧密排列;
光学系统,它由一用于引导所述激光束至记录媒介的辐射光路和用于引导由所述记录媒介反射的激光束至光电探测器的反射光路构成;和
固定元件,用于固定所述光学系统的光学元件,
其中,在所述辐射光路上靠近所述光发射装置的安装位置,所述光学系统包括一铜焊全息装置,它使所述第一激光束作为0级光线通过,折射所述第二激光束,产生一初级折射光,作为主光束,其光轴与所述第一激光束的光轴重合;
所述固定元件固定由所述光发射装置和所述铜焊全息装置组成的一个整体单元。
8.根据权利要求7的装置,其中,在所述铜焊全息装置中,在盘形基片的一个表面上铜焊了锯齿形状的全息装置,并且该表面安装在所述单元中使它朝向所述光发射装置相对的方向。
9.根据权利要求7的装置,其中,所述铜焊全息装置产生0级光和所述第二激光束的二级折射光作为次级光束,用于产生三束方法中的跟踪误差信号。
10.根据权利要求7的装置,其中,所述铜焊全息装置使所述第二激光束的0级光的光量与所述二次折射光的光量完全相合,其偏光性与所述初级折射光的相同。
11.根据权利要求7的装置,其中,所述第一激光束的波长短于所述第二激光束的波长。
12.一种用于光学读取装置的半导体激光器单元,包括:
光发射装置,它具有至少第一光源,用于发射第一激光束,和第二光源,用于发射波长不同于所述第一激光束的第二激光束,并且其中所述第一和第二光源紧密排列;
第一光栅,它使所述第一激光束作为0级光线通过,折射所述第二激光束,产生一初级折射光,其光轴与所述第一激光束的光轴完全重合;
第二光栅,用于使用由所述第一光栅提供的激光束作为主光束,并产生相对于所述主光束的子光束,该子光束用于产生三束方法的所述跟踪误差信号;
固定元件,用于固定一个整体形式的所述光发射装置和所述第一、第二光栅。
13.根据权利要求12的单元,其中,所述第一和第二光栅由一个全息装置形成。
14.根据权利要求13的单元,其中,所述全息装置具有形成在盘形基片一个表面上的所述第一光栅和形成在所述盘形基片另一个表面上的所述第二光栅。
15.根据权利要求13的单元,其中,所述第一光栅铜焊在所述全息装置中。
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