[发明专利]压电式喷墨头的侧进口制造方法无效
| 申请号： | 01129550.3 | 申请日： | 2001-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN1393339A | 公开（公告）日： | 2003-01-29 |
| 发明（设计）人： | 林振华;周景瑜;杨明勋;杨长谋 | 申请（专利权）人： | 飞赫科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹市光*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 压电 喷墨 进口 制造 方法 | ||
1.一种压电式喷墨头的制造方法，其特征在于：包括下列步骤：
在一基底中形成一开口；
在该基底上形成一第一感旋光性高分子膜；
移除部分该第一感旋光性高分子膜，以形成一墨腔底膜，且该墨腔底膜具有复数个出墨口；
在该墨腔底膜上形成一多层感旋光性高分子膜；
移除部分该多层感旋光性高分子膜，以形成一墨腔壁，该墨腔壁具有复数个墨水腔与复数个进墨口，该些墨水腔之一分别围绕该些出墨口之一，且该些墨水腔之一分别包括该些进墨口之一；
在该墨腔壁之上形成一具有电极图案的压电陶瓷推动片；
2.根据权利要求1所述的压电式喷墨头的制造方法，其特征在于：该开口的形成方法包括利用蚀刻或凿穿的方法。
3.根据权利要求1所述的压电式喷墨头的制造方法，其特征在于：第一感旋光性高分子膜包括干膜光阻、液态光阻、正光阻、负光阻、感旋光性之聚酰亚胺或感旋光性的环氧树脂六者之一。
4.根据权利要求1所述的压电式喷墨头的制造方法，其特征在于：该第一感旋光性高分子膜在曝光前的厚度在包括10μm至500μm之间。
5.根据权利要求1所述的压电式喷墨头的制造方法，其特征在于：该些出墨口的形成方法包括使用曝光显影法。
6.根据权利要求1所述的压电式喷墨头的制造方法，其特征在于：该些出墨口之一的口径范围在包括10μm至200μm之间。
7.根据权利要求1所述的压电式喷墨头的制造方法，其特征在于：该多层感旋光性高分子膜的形成方法包括：
在该墨腔底膜上依序形成一层或一层以上的复数个第二感旋光性高分子膜。
8.根据权利要求1所述的压电式喷墨头的制造方法，其特征在于：该些第二感旋光性高分子膜的材质包括干膜光阻、液态光阻、正光阻、负光阻、感旋光性的聚酰亚胺或感旋光性的环氧树脂六者之一。
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