[发明专利]光记录媒体及其制造方法

说明书

[技术领域]

本发明涉及光记录媒体及其制造方法。

[背景技术]

作为光记录媒体例如有将有机染料用作记录材料等的CD-R、DVD-R等的补写型光盘，以及采用相变型记录材料的CD-RW、DVD-RW等可改写型光盘。这类光记录媒体是在设有跟踪用纹道(凹条部)的光盘基片上形成记录层。在这些记录媒体之中，在进行更高密度记录的DVD-R与DVD-RW中，把纹道作为记录磁道，而且把具有地址信息等预先格式设于相邻的纹道间的凸条部(称为纹间表面)中。图5与图6中例示了这种结构媒体的构造。这种媒体在基片102上具有记录层(未图示)，在基片102上存在相互大致平行的纹道109。用于记录或再生的激光束从图中下方照射。纹道104为记录磁道，在此形成记录标记10。在相邻的纹道104与104之间是纹间表面103，而在此纹间表面103中则形成有预制坑105。具有图5所示结构的光盘已描述于特开平9-326138号公报的图15中，而具有图6所示结构的光盘则记载于上述特开平9-326138号公报的图3以及特开2000-132868号公报的图1(a)之中。

下面说明光盘基片的一般制造方法。

光盘基片采用设有预制坑和纹道的字模图案的冲压模，通过对树脂进行注射成型制造。上述冲压模一般由Ni构成。为了制成此冲压模，首先制作光盘的原盘，再由此原盘制作原模(一次复制盘)、母模(二次复制盘)与子模(三次复制盘)等。

光盘原盘一般由以下工序制造。首先于玻璃等组成的刚性基片表面上形成光致抗蚀剂等抗蚀剂材料组成的抗蚀剂层。随即在由激光束等曝光用光束使抗蚀剂层曝光形成潜像图案，然后显像。通过这样地将抗蚀剂层图案化，可以制得光盘原盘。

在用此光盘原盘制作原模时，为使光盘原盘的抗蚀剂层表面上具有导电性，由溅射法或非电解镀层等形成Ni薄膜。然后以此Ni薄膜为基底进行电铸，形成Ni电铸膜。将Ni薄膜与Ni电铸膜组成的叠层体从抗蚀剂层剥离，将此叠层体用作原模。母模则是在原模的表面上形成Ni电铸模，通过剥离此Ni电铸膜制成。此时，对母模表面作氧化处理等，容易将Ni电铸模剥离。通过同样的作业，用母模可以制成子模。

在光盘原盘的制造工艺中，形成抗蚀剂层的潜像图案的最小宽度受到曝光用光束的光束点直径的限制。聚束点直径W在以λ表示光束波长而以NA作照射光学系物镜的数值孔径时，表示为W＝k·λ/NA，式中的k为根据物镜的孔径形状与入射光束的强度分布等确定的常数。在形成对应于纹道间潜像图案时，使光束按螺旋状扫描。在纹道间设有预制坑的情形。于潜像图案形成时使用两道光束，以一道光束连续地照射形成纹道图案，以另一道光束间歇地照射形成预制坑图案。这样地使用两道光束的方法在本说明书中称为双光束法。

如上所述，在制作用于制造纹道间具有预制坑结构的光盘的光盘原盘时，必须在光刻时个别控制两束曝光用光束，遂使曝光装置的结构与控制复杂化。

此外，随着记录密度的提高，还需要缩短预制坑的长度。但在既有的方法中，由于是以光束间歇地照射抗蚀剂层以在照射区域形成预制坑，例如就会由于光束的波长和照射光学系的数值孔径限制预制坑的尺寸。具体地说，在光束波长与数值孔径为一定的条件下来缩短预制坑的长度时(缩短曝光时间时)，当于抗蚀剂层中形成预制坑图案，就不能将抗蚀剂层挖坑到其底面附近，结果就不能形成规定深度的预制坑，防碍预制坑的读出。但通过缩短光束波长和更换为数值孔径大的物镜等对曝光系统作大规模的变动，则将显著加大成本。

[发明内容]

本发明把设于支承基体中的纹道或纹间表面用作记录磁道，而且对于设有预制坑的记录媒体，使支承基体的制造与高密度记录变得容易。

上述目的可以通过下述的(1)～(12)中的本发明内容来实现。

(1)光记录媒体，它在支承基体上具有记录层，在支承基体的记录层形成面上交替地存在相互大致平行的凸条部与凹条部；存在作为连接相邻凸条部的凸部的横断凸部，而此横断凸部在相邻凸条部之间的中央附近具有成为最窄的平面形状。

(2)在上述(1)内所述的光记录媒体中，所述横断凸部用作预制坑。

(3)在上述(1)或(2)内所述的光记录媒体中，于所述凸条部中存在孤立的凹部，而此孤立的凹部则用作预制坑。

(4)在上述(1)～(3)中任一之内所述的光记录媒体中，通过使凹条部的一部分弯曲，在与此凹条部相邻的凸条部中形成突出的区域，而将此突出区域用作预制坑。