[发明专利]等离子显示器的不对称阻隔壁结构的制作方法无效
| 申请号: | 01108981.4 | 申请日: | 2001-02-28 |
| 公开(公告)号: | CN1373491A | 公开(公告)日: | 2002-10-09 |
| 发明(设计)人: | 林建和;周众望 | 申请(专利权)人: | 达碁科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01J9/00 | 分类号: | H01J9/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
| 地址: | 台湾省新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 等离子 显示器 不对称 阻隔 结构 制作方法 | ||
1.一种等离子显示器(Plasma Display Panel,PDP)的不对称阻隔壁结构的制作方法,其包括下列步骤:
(a)提供一基板,其包括多个电极,定义形成于该基底表面上;一介电层,覆盖住该多个电极与该基底表面;以及一阻隔壁材料层,形成于该介电层表面上;
(b)于该阻隔壁材料层上定义形成多组底部图案层,其中每一组底部图案层包括宽度相同且等距排列的一第一底部图案层、一第二底部图案层以及一第三底部图案层;
(c)分别于该多组底部图案层表面上定义形成多组层间图案层,其中每一组层间图案层包括一第一层间图案层、一第二层间图案层以及一第三层间图案层,该第一层间图案层左侧对齐设置于该第一底部图案层的上方而使该第一底部图案层的右侧部分曝露出来,该第二层间图案层右侧对齐设置于该第二底部图案层的上方而使该第二底部图案层的左侧部分曝露出来,该第三层间图案层左右对齐设置于该第三底部图案层的上方;
(d)分别于该多组层间图案层表面上定义形成多组顶部图案层,其中每一组顶部图案层包括一第一顶部图案层以及一第二顶部图案层,该第一顶部图案层左侧对齐设置于该第一层间图案层的上方而使该第一层间图案层的右侧部分曝露出来,该第二顶部图案层右侧对齐设置于该第三层间图案层的上方而使该第三层间图案层的左侧部分曝露出来;
(e)进行一喷砂(sandblasting)工艺,将未被该多组底部图案层、该多组层间图案层以及该多组顶部图案层所覆盖的阻隔壁材料去除,直至使部份的该介电层表面曝露出来;以及
(f)进行一剥离工艺,将该多组底部图案层、该多组层间图案层以及该多组顶部图案层完全去除,而存留的该阻隔壁材料层构成多组不对称阻隔壁结构。
2.如权利要求1所述的制作方法,其中该第一底部图案层、该第二底部图案层以及该第三底部图案层互相平行排列,且设置于每一电极上方的以外区域。
3.如权利要求1所述的制作方法,其中该步骤(b)包括:
(b1)于该阻隔壁材料层上形成一第一感光性干膜(photosensitive dryfilm);
(b2)对该第一感光性干膜进行一第一曝光工艺;以及
(b3)对该第一感光性干膜进行一第一显影工艺,将该第一感光性干膜未被曝光的区域去除,以定义形成该多组底部图案层。
4.如权利要求3所述的制作方法,其中该步骤(c)包括:
(c1)于该基板表面上形成一第二感光性干膜;
(c2)对该第二感光性干膜进行一第二曝光工艺;以及
(c3)对该第二感光性干膜进行一第二显影工艺,将该第二感光性干膜未被曝光的区域去除,以定义形成该多组层间图案层。
5.如权利要求4所述的制作方法,其中该步骤(d)包括:
(d1)于该基板表面上形成一第三感光性干膜;
(d2)对该第三感光性干膜进行一第三曝光工艺;以及
(d3)对该第三感光性干膜进行一第三显影工艺,将该第三感光性干膜未被曝光的区域去除,以定义形成该多组顶部图案层。
6.如权利要求1所述的制作方法,其中该多组底部图案层、该多组层间图案层以及该多组顶部图案层的制作方法包括:
于该阻隔壁材料层上形成一第一感光性干膜;
对该第一感光性干膜进行一第一曝光工艺;
于该第一感光性干膜上形成一第二感光性干膜;
对该第二感光性干膜进行一第二曝光工艺;
于该第二感光性干膜上形成一第三感光性干膜;
对该第三感光性干膜进行一第三曝光工艺;以及
进行一显影工艺,将该第一感光性干膜、该第二感光性干膜以及该第二感光性干膜未被曝光的区域去除,以定义形成该多组底部图案层、该多组层间图案层以及该多组顶部图案层。
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