[发明专利]液体和气体消毒和净化的方法

权利要求书

1.一种消毒和净化液体和气体的方法，该法包括：使所述的液体或气体通过具有平截头的复合聚能器几何结构的反应器或反应器组合；以及同时将各种电磁能和声能传送和聚集在所述的复合聚能器反应器的特别预定的内部空间中，在预定的时期内在所述的反应器中形成高能密度区。

2.根据权利要求1的方法，其中反应器为复合抛物形聚能器。

3.根据权利要求1的方法，其中反应器为复合椭圆聚能器。

4.根据权利要求1的方法，其中反应器的内表面用光催化剂的薄层涂覆。

5.根据权利要求4的方法，其中光催化剂为TiO₂。

6.根据权利要求1的方法，其中电磁能为任何电磁谱范围的电磁能或其组合。

7.根据权利要求1的方法，其中声能有任何适合的频率。

8.根据权利要求1的方法，其中至少一种电磁能源封闭在反应器中。

9.根据权利要求1的方法，其中至少一个电磁能源在反应器外。

10.根据权利要求1的方法，其中至少一个电磁能源为激光。

11.根据权利要求10的方法，其中激光为脉冲激光。

12.根据权利要求1的方法，其中有高强度光源的辐射单元为约1赫至约50千赫的高重复频率、约1mJ至约50J的高峰值功率的闪光灯。

13.根据权利要求1的方法，其中液体和气体通过至少两个复合抛物形反应器串联的反应器阵列。

14.根据权利要求1的方法，其中液体和气体通过至少两个复合抛物形反应器并联的反应器阵列。

15.根据权利要求1的方法，其中电磁能为约200至约400纳米的紫外线(UV)能。

16.根据权利要求15的方法，其中紫外线辐射为脉冲辐射。

17.一种用于上述权利要求中任一项的方法的复合聚能器反应器设备，其中所述的反应器为带有用于气体和液体流过的宽入口和窄出口的中空平截头聚能器，以及所述的聚能器有能使光聚集在其中形成高能密度区的特别预定的光聚集几何形状。

18.根据权利要求16的设备，其中聚能器的内部形状为复合抛物形或椭圆聚能器几何形状。

19.根据权利要求15的设备，其中反应器的内壁用光催化剂涂覆。

20.根据权利要求18的设备，其中光催化剂为TiO₂(钛氧化物)。

21.根据权利要求19的设备，其中TiO₂被以等离子体溅射方式涂覆，厚度为约0.8至约1000微米。

22.根据权利要求20的设备，其中将厚度0.8至约1500微米的TiO₂涂层涂覆在SiO₂基质上，形成预定的折射指数。

23.根据权利要求21的设备，其中涂覆材料的折射指数低于流过反应器的液体或气体的折射指数。

24.根据权利要求16-22的设备，其中涂覆层有许多沟槽，其中所述的沟槽平行排列或按栅格结构排列，并且其中两连续沟槽之间的距离小于照射其上单个入射波长的长度。

25.根据权利要求17-24的设备，其中反应器为反渗析体系或过滤体系的一部分。

26.一种上面描述和说明的设备。

27.一种上面描述和说明的方法。