[发明专利]造型方法和具有造型机的造型系统有效

专利信息
申请号: 00806793.7 申请日: 2000-05-15
公开(公告)号: CN1349441A 公开(公告)日: 2002-05-15
发明(设计)人: 平田实;波多野丰 申请(专利权)人: 新东工业株式会社
主分类号: B22C15/08 分类号: B22C15/08;B22C15/28
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 郑修哲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 造型 方法 具有 造型机 系统
【说明书】:

发明领域

本发明涉及一种造型方法和具有造型机的造型系统。更确切地,本发明涉及这样一种造型方法和具有造型机的造型系统,其制成的铸型密度均匀,几乎没有型砂从造型机中流溢出,并且必须从铸型中清除出的型砂数量相比现有技术变得更少。

现有技术的描述

模板被造型机的造型框架所包围。通常,型砂利用重力从一个漏斗落入并填满造型机的造型框架。随后溢过造型框架的型砂会被一个适合的元件扫掉,这样型砂的上表面可变平。

传统的造型机会不论模板表面区域的不同高度而将型砂供应在模板的整个表面上。这样,型砂在装填时溢出造型框架。同样,在型砂被压制时,其密度会根据模板上图案的不同高度而在模板不同区域处发生变化。

同样,传统的造型机会在长时间内为造型框架供应一不变(常量)体积的型砂,这样,尽管给模板供应型砂必须根据模板的图案准确地进行变化,但是型砂的密度仍会在模板的不同位置发生变化。由此,当型砂被压制的情况下,所获得的铸型能从模板突出。这样,突出模板上部平面的铸型部分必须被清除,以便使铸型的上表面与造型框架的上边缘平齐。这样就浪费了很多数量的型砂。同样也需要一种用于清除型砂的装置。另外,型砂在清除时也会发生散布。

相应,本发明的主要目的是提供一种造型方法和具有造型框架的造型机的装置,通过该方法和装置,从造型框架中溢出以及必须从中清除出的型砂相比现有技术变得更少,并且在型砂压制后造型框架中的型砂密度很均匀。

发明概述

由此,上述目的是通过一种用于具有造型框架的造型机的造型方法而实现的。该方法包括如下步骤:利用一模板、一个能放置在模板上的造型框架、一个能放置在造型框架上的装填框架以及一个覆盖装置来限定一型砂装填腔,该覆盖装置具有若干压实脚,该压实脚能进入装填框架并且能被暂时固定在位于压实脚下端和正对压实脚下端的模板上的图案表面之间的一定距离处的确定位置上;为型砂装填腔装填型砂;利用压实脚压制型砂。

型砂装填腔的容积可通过上下移动各个压实脚而进行控制。

同样,上述目的是通过一种具有造型框架的造型机所使用的造型方法而实现的,其中型砂装填腔的容积是通过改变模板上的图案表面和所有压实脚之间的距离而进行控制的。

当检测到型砂的任何部分太多或太少时,控制各个压实脚的位置。当检测到型砂太多或太少时,控制模板上的图案表面和所有压实脚之间的距离。    

探测型砂部分太多或太少或型砂太多或太少的步骤包括,当型砂在型砂装填腔内被压制时,检测型砂对压实脚的反作用力,根据反作用力的检测结果进行计算。

通过供应压缩空气来提供型砂。

通过若干喷嘴而提供型砂。

通过根据模板上图案形状而改变喷嘴的通气数量,从而改变型砂的输送。

在供应型砂结束后,起动高压空气或高压气流。

根据以往的造型数据,可以控制型砂装填腔的容积、通气的位置和强度以及高压空气或高压气流的强度中的任何一个。

以往的造型数据存储在具有造型框架的造型机的控制器存储装置中。在造型过程中利用具有造型框架的造型机进行相关操作之前,将型砂装填腔的容积、通气的位置和强度以及高压空气或高压气流的强度设定为最优值。

以往的造型数据通过具有造型框架的造型机的控制器而与存储着供另一造型机使用的造型数据的计算机相连。使用计算机的计算结果,以便来设定型砂装填腔的容积、通气的位置和强度以及高压空气或高压气流的强度等最优值。

同样,上述目的是通过如下的一个具有造型框架的造型系统而实现的,该造型系统包括一个模板;一个能放置在模板上的造型框架;一个能放置在造型框架上的装填框架以及一个覆盖装置,该覆盖装置具有若干压实脚,该压实脚能进入装填框架并且能被暂时固定在位于在压实脚下端和正对压实脚下端的模板上图案表面之间一定距离处的确定位置上;以及一个为型砂装填腔供应型砂的型砂供应装置,型砂装填腔是由模板、造型框架、装填框架和覆盖装置所限定出的,其特征在于,该系统包括若干传感器,用于检测对各自压实脚的反作用力;一个存储装置,用于存储基于检测反作用力的传感器基础的检测结果;一个距离计算装置,用于计算相对型砂装填腔的压实脚下端和正对压实脚下端的模板上图案之间的距离。

覆盖装置具有若干该覆盖装置具有若干压实脚,该压实脚能通过覆盖装置的板并上下运动,以便能组合形成型砂装填腔的一个上表面。

当一部分铸型的密度太高或太低时,即可检测到部分太多或太少的任何型砂。当检测到所有型砂的密度太高或太低时,即可检测到太多或太少的型砂。

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