[发明专利]含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1．一种光致抗蚀剂组合物，其包括(a)光致抗蚀剂树脂，(b)光酸产生剂，(c)光碱产生剂，及(d)有机溶剂。

2．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所说光碱产生剂选自由化学式1的化合物及化学式2的化合物所组成的组中，其中，

R′为经一个或多个硝基取代的芳基；

R₁及R₂分别为氢，或可选择取代的直链或支链(C₁-C₁₀)烷基；

R₃为可选择取代的直链或支链(C₁-C₂₀)烷基，可选择取代的(C₃-C₂₀)环烷基，或可选择取代的(C₆-C₂₀)芳基；

R₄及R₅分别为氢，可选择取代的直链或支链(C₁-C₂₀)烷基，或可选择取代的(C₆-C₂₀)芳基；及

R₆为氢，可选择取代的直链或支链(C₁-C₂₀)烷基；或可选择取代的(C₆-C₂₀)芳烷基。

3．根据权利要求2的光致抗蚀剂组合物，其中R′为在邻位上有一或两个硝基取代的芳基。

4．根据权利要求2的光致抗蚀剂组合物，其中所说化学式1的化合物选自由化学式1a至1f的化合物所组成的组中：

5．根据权利要求2的光致抗蚀剂组合物，其中所说化学式2的化合物选自由化学式2a至2c的化合物所组成的组中：

6．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所说光酸产生剂为硫化物或鎓类化合物。

7．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所说光酸产生剂为选自由二苯基碘六氟磷酸盐、二苯基碘六氟砷酸盐、二苯基碘六氟锑酸盐、二苯基对-甲氧基苯基三氟甲磺酸盐、二苯基对-甲苯基三氟甲磺酸盐、二苯基对-异丁基苯基三氟甲磺酸盐、二苯基对-叔丁基苯基三氟甲磺酸盐、六氟磷酸三苯基锍、六氟砷酸三苯基锍、六氟锑酸三苯基锍、三氟甲磺酸三苯基锍、三氟甲磺酸二丁基萘基锍及其混合物所组成的组中。

8．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所说光酸产生剂量为所说光致抗蚀剂树脂的约0.05重量％至约10重量％。

9．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所说光碱产生剂的量为所说光酸产生剂的约30重量％至约150重量％。

10．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所说有机溶剂选自由丙二醇甲基醚醋酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、环己酮、2-庚酮及其混合物所组成的组中。

11．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所说有机溶剂为所说光致抗蚀剂树脂的约200重量％到约800重量％。

12．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所说光致抗蚀剂树脂为化学放大光致抗蚀剂聚合物。

13．根据权利要求11的光致抗蚀剂组合物，其中所说光致抗蚀剂聚合物包括化学式5的聚合物：

14．一种形成光致抗蚀剂图案的方法，其包括下列步骤：

(a)将权利要求1的光致抗蚀剂组合物涂布于基板上以形成光致抗蚀剂膜；

(b)使用曝光机，将所说光致抗蚀剂膜曝于光线下；及

(c)显影所说经曝光的光致抗蚀剂膜。

15．根据权利要求14的方法，该方法还包括在所说曝光步骤(b)之前和/或之后的烘烤步骤。

16．根据权利要求15的方法，其中所说烘烤步骤在70℃至200℃的温度下进行。

17．根据权利要求14的方法，其中所说曝光机为选自由ArF、KrF、VUV、EUV、E-光束、X-射线及离子束所组成的组中。