[发明专利]电子材料用基板洗净液有效
| 申请号： | 00106046.5 | 申请日： | 2000-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1271000A | 公开（公告）日： | 2000-10-25 |
| 发明（设计）人： | 石川典夫;阿部优美子;森清人 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C11D1/00 | 分类号： | C11D1/00;C11D3/20;H01L21/461 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电子 材料 用基板 洗净 | ||
【权利要求书】：
1、洗净电子材料用基板的洗净液，其含有分散剂和表面活性剂中的至少任一种及有机酸化合物。
2、如权利要求1所述的洗净液，其中，所述有机酸化合物是从草酸、丙二酸、琥珀酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸及其铵盐组成的组中选择的1种或2种以上。
3、如权利要求1所述的洗净液，其中，所述表面活性剂是阴离子型或者非离子型的表面活性剂。
4、如权利要求1所述的洗净液，其中，所述分散剂是从缩合磷酸和磷酸酯类组成的组中选择的1种或者2种以上。
5、如权利要求1所述的洗净液，其中，所述有机酸化合物是0.01～30重量％。
6、如权利要求1所述的洗净液，其中，所述分散剂和表面活性剂是0.0001～10重量％。
7、如权利要求1所述的洗净液，其还含有螯合剂。
8、如权利要求1所述的洗净液，其还含有水溶性醇。
9、如权利要求1～8中任一项所述的洗净液，其能够同时去除吸附在基板上的金属杂质和颗粒污染物。
10、如权利要求1～9中任一项所述的洗净液，其中，所述电子材料用基板是施加金属配线后的基板。
11、如权利要求10所述的洗净液，其是在化学的机械研磨后使用。
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