[发明专利]混合设备无效
| 申请号: | 00105420.1 | 申请日: | 2000-03-21 |
| 公开(公告)号: | CN1314502A | 公开(公告)日: | 2001-09-26 |
| 发明(设计)人: | 保罗·汉尼唐;温国卫 | 申请(专利权)人: | 亚洲电镀器材有限公司 |
| 主分类号: | C25D21/00 | 分类号: | C25D21/00;B01F1/00 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 刘兴鹏 |
| 地址: | 中国*** | 国省代码: | 香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 混合 设备 | ||
本发明涉及一个电镀设备,特别是诸如包括有促进溶质在溶剂中的溶解和混合,和减少未溶解溶质被携带离开混合室、进入电镀设备的室的量。
现有的电镀设备是已知的。现有电镀设备的实例包括在其中具有各自的室的两个壳体。第一室是用于在溶剂中溶解溶质以形成电解液。然后电解液被输送到进行电镀的第二室。
这个传统类型的设备存在的一个问题是在第一室中未溶解的溶质与电解液一起被输送到第二室中。这样不仅未溶解的溶质污染了第二室从而影响电镀过程,而且需要附加的溶质以补偿流入第二室没有利用的未溶解溶质从而造成了浪费。
这个传统类型的设备存在的另一个问题是会经常使用布置在第一室下部具有涡轮形状的简单搅拌机构。这个设计的缺点是在溶质溶解过程中会产生不希望的强涌流。于是这个强涌流会将未溶解的溶质带到第一室的上部并离开第一室。
本发明寻求提供一个改进的混合设备以及一个改进的电镀设备以克服现有技术的设备的缺点同时提供附加的工作优点。
根据本发明的一个方面,提供了一个混合设备,其包括:一个具有至少一个入口和至少一个出口的室,该入口允许溶质和液体溶剂的进入,该出口允许所述溶质和溶剂的溶液排出;和至少一个分隔器,该分隔器具有至少一个基本面向上的表面和一个基本面向下的表面,其中所述表面限定了一个允许所述溶液的流过并排出所述室的通道,和其中未溶解的溶质沿着所述基本面向下的表面下沉。
优选的是,所述分隔器包括多个分隔部件。
有利的是,每个分隔部件包括一个板部件。
适合的是,每个板部件具有一个基本面向上的表面和一个基本面向下的表面。
优选的是,板部件被彼此并排设置。
有利的是,面向上的表面和面向下的表面基本上彼此相互平行。
适合的是,面向上的表面和基本面向下的表面从室的水平轴线基本上倾斜55°-65°。
优选的是,面向上的表面和基本面向下的表面从室的水平轴线基本上倾斜60°。
有利的是,混合设备还包括用于在所述室中搅拌带有溶质的溶剂的装置。
适合的是,混合设备还包括用于探测溶液浓度的装置,其中探测装置位于所述分隔器的下面。
优选的是,混合设备还包括在溶质在溶剂中被混合和溶解之前使溶质到达所述室的下部的装置。
根据本发明的第二方面,提供了一个电镀设备,其中该电镀设备包括以上所述的混合设备。
通过参考以下附图,只借助于实例,描述本发明的实施例,其中:
图1是显示了本发明的电镀设备的横截面的示意图;
图2是在图1中显示的电镀设备的混合室的透视图;
图3是去除壳体后在图2中显示的混合设备的透视图;
图4是显示了图2中的混合室的下部的横截面的示意图;
图5是图3中吸收管的底部视图;
图6是图3中的喷洒管的底部视图;
图7a是防涡流器的一部分的透视图;
图7b是在图7a中的防涡流器的一部分的俯视图;
图8是显示在图2中混合室的分隔器的一部分的透视图;
图9a是在在图2中混合室的分隔器的一部分的横截视图;
图9b是与图9a相比具有不同结构的分隔器的一部分的横截视图;
图10a是显示了其中包含有在溶剂中溶解的溶质的试管;
图10b显示了其中包含有在溶剂中溶解的溶质的在倾斜位置的另一个试管;
图1显示了本发明的一个电镀设备1的实施例。电镀设备1一般能够被分成两个区域,即具有混合室12的高浓度区44和具有电镀贮槽26和电镀池的28的低浓度区42。在混合室12的上方设置一个由直流电动机驱动6驱动的送料器2,直流电动机6由电源8供电。送料器2一般具有带有较窄的下部的容器的形状,其中还包括一个过滤器4(未示出)。包容在送料器2的壳体内的溶质(例如固体CuO粉末)通过过滤器被过滤,之后通过一个螺旋送料器10被输送到出口46。
如图1和图2所示,混合室12一般是矩形的。当所示的混合室12一般为矩形箱的形状时,可以使用不同构造的混合室12。带有扩大开口的入口15的伸长的管16被布置在混合室12的一侧。混合室12还包括一个分隔器22和一个防涡流器48。伸长的管16基本平行于混合室12的垂直轴线,而分隔器22和防涡流器48水平地穿过混合室12。可以看出,混合室12一般包括位于上部的分隔器22和位于中部的防涡流器48以及位于下部的混合机构20。混合室12的混合机构20将被更加详细地描述。
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